| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-25页 |
| §1.1 辐射探测器 | 第12页 |
| §1.2 CVD金刚石膜 | 第12-14页 |
| §1.3 CVD金刚石探测器 | 第14-17页 |
| §1.3.1 CVD金刚石探测器存在的困难和研究重点 | 第15-16页 |
| §1.3.2 CVD金刚石探测器的应用 | 第16-17页 |
| §1.4 微条气体室探测器 | 第17-19页 |
| §1.4.1 微条气体室探测器存在的困难和研究重点 | 第18-19页 |
| §1.4.2 微条气体室探测器的应用 | 第19页 |
| §1.5 立题依据及课题意义 | 第19-20页 |
| §1.5.1 探测器级CVD金刚石膜的制备及光电性能研究 | 第19页 |
| §1.5.2 CVD金刚石探测器 | 第19-20页 |
| §1.5.3 微条气体室探测器 | 第20页 |
| §1.6 本论文研究内容 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-25页 |
| 第二章 CVD金刚石膜的制备及光电性能研究 | 第25-54页 |
| §2.1 引言 | 第25-26页 |
| §2.2 实验 | 第26-32页 |
| §2.2.1 热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石膜 | 第26-29页 |
| §2.2.2 CVD金刚石膜制备 | 第29-30页 |
| §2.2.3 CVD金刚石膜样品处理 | 第30-31页 |
| §2.2.4 仪器设备 | 第31-32页 |
| §2.3 结果和讨论 | 第32-50页 |
| §2.3.1 CVD金刚石膜形貌表征 | 第32-36页 |
| §2.3.2 CVD金刚石膜质量和结构表征 | 第36-39页 |
| §2.3.3 CVD金刚石膜红外椭圆偏振光谱的研究 | 第39-42页 |
| §2.3.4 退火工艺和薄膜质量对CVD金刚石膜电学性能的影响 | 第42-46页 |
| §2.3.5 CVD金刚石膜光学性能表征 | 第46-47页 |
| §2.3.6 CVD金刚石膜光(热)电流表征 | 第47-49页 |
| §2.3.7 CVD金刚石膜能带结构 | 第49-50页 |
| §2.4 本章小节 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 第三章 辐射探测器读出电子学系统——微机多道谱仪的建立 | 第54-65页 |
| §3.1 引言 | 第54-55页 |
| §3.2 前置放大器 | 第55-58页 |
| §3.2.1 电压灵敏前置放大器 | 第55-56页 |
| §3.2.2 电流灵敏前置放大器 | 第56页 |
| §3.2.3 电荷灵敏前置放大器 | 第56-58页 |
| §3.3 线性成形放大器 | 第58-60页 |
| §3.3.1 放大节 | 第58-59页 |
| §3.3.2 滤波成形电路 | 第59-60页 |
| §3.3.3 堆积拒绝电路 | 第60页 |
| §3.4 多道脉冲高度分析器 | 第60-62页 |
| §3.5 微机多道谱仪的其它组件 | 第62页 |
| §3.5.1 高压 | 第62页 |
| §3.5.2 机箱、电源及电缆 | 第62页 |
| §3.5.3 示波器和半导体性能表征系统 | 第62页 |
| §3.6 辐射探测器读出电子学系统——微机多道谱仪的建立 | 第62-63页 |
| §3.7 本章小节 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第四章 CVD金刚石探测器的研制 | 第65-99页 |
| §4.1 引言 | 第65-66页 |
| §4.2 CVD金刚石探测器的结构和工作原理 | 第66-67页 |
| §4.3 CVD金刚石膜的预处理 | 第67-70页 |
| §4.3.1 表面氧化处理 | 第67-68页 |
| §4.3.2 退火处理 | 第68-70页 |
| §4.4 CVD金刚石探测器的制备及其读出电子学系统 | 第70-72页 |
| §4.5 CVD金刚石探测器性能研究 | 第72-91页 |
| §4.5.1 CVD金刚石探测器暗电流特性 | 第72-74页 |
| §4.5.2 CVD金刚石X射线探测器 | 第74-83页 |
| §4.5.3 CVD金刚石α粒子探测器 | 第83-91页 |
| §4.6 CVD金刚石微条阵列探测器 | 第91-95页 |
| §4.6.1 CVD金刚石微条阵列探测器ANSYS模拟 | 第92-93页 |
| §4.6.2 CVD金刚石微条阵列探测器的制备 | 第93-94页 |
| §4.6.3 CVD金刚石微条阵列探测器的性能表征 | 第94-95页 |
| §4.7 本章小节 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-99页 |
| 第五章 CVD金刚石膜／硅为基板的微条气体室研制 | 第99-134页 |
| §5.1 微条气体室探测器的工作原理 | 第99-100页 |
| §5.2 微条气体室探测器基板的研究 | 第100-108页 |
| §5.2.1 DLC膜／D263玻璃基板 | 第101-105页 |
| §5.2.2 CVD金刚石膜／硅基板 | 第105-108页 |
| §5.3 微条气体室探测器参数的ANSYS模拟 | 第108-114页 |
| §5.3.1 ANSYS软件在气体探测器中的应用 | 第108页 |
| §5.3.2 实验 | 第108-109页 |
| §5.3.3 结果与讨论 | 第109-114页 |
| §5.4 CVD金刚石膜／硅为基板的微条气体室探测器制备 | 第114-119页 |
| §5.4.1 微条气体室探测器电极研究 | 第114-115页 |
| §5.4.2 微条气体室探测器工作气体研究 | 第115-117页 |
| §5.4.3 微条气体室探测器制备 | 第117-119页 |
| §5.5 微条气体室探测器性能研究 | 第119-124页 |
| §5.5.1 微条气体室信号读出电子学系统 | 第119-120页 |
| §5.5.2 结果与讨论 | 第120-124页 |
| §5.6 气体电子倍增器(GEM)的研制 | 第124-130页 |
| §5.6.1 气体电子倍增器 | 第124-126页 |
| §5.6.2 GEM复合膜的制备 | 第126-127页 |
| §5.6.3 MSGC+GEM探测器系统的性能研究 | 第127-130页 |
| §5.7 本章小节 | 第130-131页 |
| 参考文献 | 第131-134页 |
| 第六章 结论 | 第134-136页 |
| 攻读博士学位期间发表论文 | 第136-141页 |
| 攻读博士学位期间所承担科研项目 | 第141-142页 |
| 致谢 | 第142页 |
