| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-17页 |
| ·、 惯性约束聚变(ICF)概述 | 第8-9页 |
| ·、 高功率固体激光装置的国内外技术现状 | 第9-13页 |
| ·、 神光Ⅲ原型装置及前端系统 | 第13-15页 |
| ·、 研究的目的和意义 | 第15-16页 |
| ·、 本文主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 系统稳定性分析与研究 | 第17-34页 |
| ·、 NIF的稳定性分析与计算模块 | 第17-18页 |
| ·、 神光Ⅲ的稳定性要求 | 第18-20页 |
| ·、 影响系统结构稳定性的因素及对策 | 第20-32页 |
| ·、 温度变化对系统结构稳定性的影响 | 第20-25页 |
| ·、 温度影响作用方式 | 第21-23页 |
| ·、 针对热变形可采取的措施 | 第23-24页 |
| ·、 小结 | 第24-25页 |
| ·、 形变对系统稳定性的影响 | 第25-27页 |
| ·、 变形的产生及减小变形的措施 | 第25-27页 |
| ·、 振动对系统稳定性的影响 | 第27-32页 |
| ·、 振源及振动形式 | 第27-28页 |
| ·、 振动分析 | 第28-31页 |
| ·、 提高结构抗振性能的措施 | 第31-32页 |
| ·、 总结 | 第32-34页 |
| 第三章 LD泵浦的激光放大器设计 | 第34-45页 |
| ·、 激光放大器及半导体激光器 | 第34-37页 |
| ·、 放大器原理 | 第34-36页 |
| ·、 半导体激光器 | 第36-37页 |
| ·、 LD泵浦的激光放大器 | 第37-44页 |
| ·、 LD环形阵列的冷却结构 | 第38-40页 |
| ·、 Nd3+:YLF激光介质的冷却结构 | 第40-41页 |
| ·、 LD泵浦的激光放大器结构 | 第41-44页 |
| ·、 小结 | 第44-45页 |
| 第四章 LD泵浦的高增益激光放大系统总体结构及精密调节单元结构设计 | 第45-63页 |
| ·、 LD泵浦的高增益激光放大器系统总体布局 | 第46-52页 |
| ·、 系统排布要求 | 第46页 |
| ·、 系统单元器件安装定位方式方法 | 第46-47页 |
| ·、 系统排布结构 | 第47-49页 |
| ·、 LD泵浦的高增益放大器系统总体结构 | 第49-51页 |
| ·、 小结 | 第51-52页 |
| ·、 精密调节单元结构设计 | 第52-63页 |
| ·、 LD泵浦的激光放大器精密调节结构设计 | 第55-58页 |
| ·、 激光隔离器、光纤准直器及空间滤波器精密调节架设计 | 第58-60页 |
| ·、 反射镜精密调节架设计 | 第60-61页 |
| ·、 小结 | 第61-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-66页 |
| 第六章 效益分析 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第70页 |
| 声明 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |