| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·YAG的晶体结构和基本性能 | 第11-14页 |
| ·YAG的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·YAG的基本性能 | 第12-14页 |
| ·YAG晶体的应用 | 第14-16页 |
| ·YAG激光晶体 | 第14-15页 |
| ·高温结构材料 | 第15页 |
| ·荧光物质 | 第15-16页 |
| ·YAG粉体的合成方法 | 第16-19页 |
| ·固相反应法 | 第16-17页 |
| ·化学共沉淀法 | 第17-18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| ·YAG的主要成型方法 | 第19-25页 |
| ·YAG的主要成型方法 | 第19页 |
| ·湿法成型浆料制备 | 第19-25页 |
| ·颗粒在液体介质中的行为 | 第20-21页 |
| ·颗粒在液体介质中的分散机理 | 第21-25页 |
| ·影响透明陶瓷透光性的因素 | 第25-27页 |
| ·气孔率 | 第26页 |
| ·晶界结构 | 第26页 |
| ·晶体结构 | 第26页 |
| ·原料与第二相杂质 | 第26页 |
| ·添加剂 | 第26-27页 |
| ·表面加工光洁度 | 第27页 |
| ·课题的提出及主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 YAG多晶透明陶瓷固相反应工艺研究 | 第28-49页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·实验部分 | 第29-32页 |
| ·实验原料 | 第29页 |
| ·实验设备及仪器 | 第29页 |
| ·实验过程 | 第29-32页 |
| ·混料 | 第29-30页 |
| ·粉体的煅烧 | 第30页 |
| ·粉体的成型 | 第30页 |
| ·真空烧结 | 第30页 |
| ·样品的加工 | 第30-32页 |
| ·测试方法 | 第32页 |
| ·密度的测量 | 第32页 |
| ·XRD测试 | 第32页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第32页 |
| ·晶粒大小的统计 | 第32页 |
| ·热膨胀分析 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-47页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第32-38页 |
| ·煅烧温度对粉体的影响 | 第33-35页 |
| ·煅烧温度对素坯密度地影响 | 第35页 |
| ·煅烧温度对烧结体相对密度的影响 | 第35-36页 |
| ·煅烧温度对烧结体晶粒大小的影响 | 第36-38页 |
| ·烧结温度的影响 | 第38-42页 |
| ·烧结温度对烧结体相对密度的影响 | 第38-39页 |
| ·烧结温度对烧结体晶粒大小的影响 | 第39-41页 |
| ·烧结温度对烧结体透光性的影响 | 第41-42页 |
| ·烧结助剂(TEOS)的影响 | 第42-45页 |
| ·烧结助剂对致密化的影响 | 第43页 |
| ·烧结助剂对晶粒生长的影响 | 第43-44页 |
| ·烧结助剂对样品透光性的影响 | 第44-45页 |
| ·不同Al_2O_3原料的影响 | 第45-47页 |
| ·不同Al_2O_3原料粉体不同温度煅烧的XRD分析 | 第45-46页 |
| ·不同Al_2O_3原料的DL曲线分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第三章 离心成型制备Nd:YAG透明陶瓷 | 第49-61页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·实验原料 | 第50页 |
| ·实验设备及仪器 | 第50页 |
| ·实验过程 | 第50-51页 |
| ·粉料准备 | 第50页 |
| ·浆料的制备 | 第50-51页 |
| ·浆料的成型 | 第51页 |
| ·真空烧结 | 第51页 |
| ·测试方法 | 第51-53页 |
| ·吸附量的测定 | 第51-52页 |
| ·沉降实验 | 第52页 |
| ·ζ电位的测定 | 第52页 |
| ·粒度分布的测定 | 第52-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-60页 |
| ·PAA—NH_4的吸附量 | 第53-55页 |
| ·PAA—NH_4含量对沉降百分比的影响 | 第55-56页 |
| ·ζ电位影响因素 | 第56-59页 |
| ·成型样品的比较 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67页 |