块体纳米晶工业纯铁化学镀镍磷
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-21页 |
·块体纳米材料 | 第11-13页 |
·块体纳米材料纳特点及性能 | 第11-12页 |
·块体纳米晶工业纯铁 | 第12-13页 |
·化学镀Ni-P技术 | 第13-19页 |
·国内外研究现状、发展动态 | 第13-14页 |
·化学镀高磷Ni-P合金 | 第14-18页 |
·化学镀Ni-P合金反应机理 | 第14-16页 |
·沉积过程 | 第16页 |
·Ni-P镀层的相关性能 | 第16-18页 |
·化学镀Ni-P合金镀液主要成分简介 | 第18-19页 |
·本课题研究意义 | 第19-21页 |
第2章 化学镀Ni-P | 第21-25页 |
·实验材料 | 第21-22页 |
·实验仪器 | 第22页 |
·化学镀Ni-P实验工艺流程 | 第22-25页 |
第3章 镍磷合金镀层性能研究 | 第25-49页 |
·镀层外观 | 第25页 |
·微观形貌及成分分析 | 第25-28页 |
·微观形貌 | 第26-27页 |
·成分分析 | 第27-28页 |
·镀层厚度 | 第28-31页 |
·金相法测量镀层厚度 | 第28-30页 |
·称重法测量镀层厚度 | 第30-31页 |
·孔隙率 | 第31-32页 |
·结合强度 | 第32-33页 |
·温度对Ni-P镀层的影响 | 第33-38页 |
·热处理温度与硬度关系的研究 | 第33-34页 |
·Ni-P合金的晶化行为的研究 | 第34-37页 |
·镀层的热稳定性能 | 第37-38页 |
·腐蚀性能 | 第38-47页 |
·电化学测试基本原理 | 第38-40页 |
·Tafel极化曲线法 | 第38-39页 |
·电化学阻抗谱法 | 第39-40页 |
·实验材料及设备 | 第40-41页 |
·电化学实验 | 第41页 |
·实验结果及分析 | 第41-47页 |
·电化学测量结果 | 第41-45页 |
·腐蚀形貌 | 第45-47页 |
·本章小结 | 第47-49页 |
第4章 基体对化学镀沉积过程的影响 | 第49-57页 |
·扫描电镜对沉积过程的研究 | 第49-50页 |
·X射线光电子能谱对沉积过程的研究 | 第50-55页 |
·X射线光电子能谱仪工作原理 | 第50-51页 |
·实验仪器设备 | 第51页 |
·实验结果及分析 | 第51-55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
第5章 结论 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
致谢 | 第63页 |