块体纳米晶工业纯铁化学镀镍磷
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·块体纳米材料 | 第11-13页 |
| ·块体纳米材料纳特点及性能 | 第11-12页 |
| ·块体纳米晶工业纯铁 | 第12-13页 |
| ·化学镀Ni-P技术 | 第13-19页 |
| ·国内外研究现状、发展动态 | 第13-14页 |
| ·化学镀高磷Ni-P合金 | 第14-18页 |
| ·化学镀Ni-P合金反应机理 | 第14-16页 |
| ·沉积过程 | 第16页 |
| ·Ni-P镀层的相关性能 | 第16-18页 |
| ·化学镀Ni-P合金镀液主要成分简介 | 第18-19页 |
| ·本课题研究意义 | 第19-21页 |
| 第2章 化学镀Ni-P | 第21-25页 |
| ·实验材料 | 第21-22页 |
| ·实验仪器 | 第22页 |
| ·化学镀Ni-P实验工艺流程 | 第22-25页 |
| 第3章 镍磷合金镀层性能研究 | 第25-49页 |
| ·镀层外观 | 第25页 |
| ·微观形貌及成分分析 | 第25-28页 |
| ·微观形貌 | 第26-27页 |
| ·成分分析 | 第27-28页 |
| ·镀层厚度 | 第28-31页 |
| ·金相法测量镀层厚度 | 第28-30页 |
| ·称重法测量镀层厚度 | 第30-31页 |
| ·孔隙率 | 第31-32页 |
| ·结合强度 | 第32-33页 |
| ·温度对Ni-P镀层的影响 | 第33-38页 |
| ·热处理温度与硬度关系的研究 | 第33-34页 |
| ·Ni-P合金的晶化行为的研究 | 第34-37页 |
| ·镀层的热稳定性能 | 第37-38页 |
| ·腐蚀性能 | 第38-47页 |
| ·电化学测试基本原理 | 第38-40页 |
| ·Tafel极化曲线法 | 第38-39页 |
| ·电化学阻抗谱法 | 第39-40页 |
| ·实验材料及设备 | 第40-41页 |
| ·电化学实验 | 第41页 |
| ·实验结果及分析 | 第41-47页 |
| ·电化学测量结果 | 第41-45页 |
| ·腐蚀形貌 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 基体对化学镀沉积过程的影响 | 第49-57页 |
| ·扫描电镜对沉积过程的研究 | 第49-50页 |
| ·X射线光电子能谱对沉积过程的研究 | 第50-55页 |
| ·X射线光电子能谱仪工作原理 | 第50-51页 |
| ·实验仪器设备 | 第51页 |
| ·实验结果及分析 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第5章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63页 |