| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-28页 |
| ·ICP的特性 | 第9-17页 |
| ·等离子体的概念及用途 | 第9-11页 |
| ·低温等离子体源的分类 | 第11-14页 |
| ·ICP的特性及用途 | 第14-15页 |
| ·研究ICP的实验方法 | 第15-17页 |
| ·脉冲调制ICP的研究进展 | 第17-27页 |
| ·本文的研究内容及安排 | 第27-28页 |
| 2 脉冲调制ICP放电的实验介绍 | 第28-31页 |
| ·实验装置 | 第28-29页 |
| ·诊断设备 | 第29-31页 |
| 3 脉冲调制ICP Ar放电的实验研究 | 第31-35页 |
| ·OES谱线强度的定点测量 | 第31-33页 |
| ·谱线强度随功率的变化 | 第31页 |
| ·谱线强度随脉冲占空比的变化 | 第31-32页 |
| ·谱线强度随脉冲重复频率的变化 | 第32-33页 |
| ·谱线强度随工作气压的变化 | 第33页 |
| ·谱线强度的径向分布 | 第33-35页 |
| 4 脉冲调制ICP O_2放电的实验研究 | 第35-39页 |
| ·OES谱线强度的定点测量 | 第35-37页 |
| ·谱线强度随功率的变化 | 第35页 |
| ·谱线强度随脉冲重复频率的变化 | 第35-36页 |
| ·谱线强度随脉冲占空比的变化 | 第36-37页 |
| ·谱线强度随工作气压的变化 | 第37页 |
| ·谱线强度的径向分布 | 第37-39页 |
| 5 脉冲调制ICP Ar/O_2混合气体放电的实验研究 | 第39-47页 |
| ·OES谱线强度的定点测量 | 第39-44页 |
| ·谱线强度随O_2含量的变化 | 第39-41页 |
| ·谱线强度随功率的变化 | 第41-42页 |
| ·谱线强度随脉冲重复频率的变化 | 第42页 |
| ·谱线强度随脉冲占空比的变化 | 第42-43页 |
| ·谱线强度随工作气压的变化 | 第43-44页 |
| ·谱线强度的径向分布 | 第44-47页 |
| 结论与展望 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |