| 中文摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-5页 |
| 中文文摘 | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 绪论 | 第9-15页 |
| 第一节 引言 | 第9页 |
| 第二节 ITO薄膜的基本性质 | 第9-10页 |
| 第三节 ITO薄膜的制备方法 | 第10-11页 |
| 1、磁控溅射法 | 第10-11页 |
| 2、脉冲激光沉积法(PLD) | 第11页 |
| 3、喷雾热解法 | 第11页 |
| 4、溶胶-凝胶法 | 第11页 |
| 第四节 ITO薄膜的研究方向 | 第11-12页 |
| 第五节 ITO薄膜的应用 | 第12-13页 |
| 第六节 本论文的研究内容 | 第13-15页 |
| 第一章 基片温度和氧气流量对磁控溅射制备ITO薄膜光电学性质的影响 | 第15-27页 |
| 第一节 引言 | 第15页 |
| 第二节 实验 | 第15-16页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第16-25页 |
| 1、薄膜的结构 | 第16-17页 |
| 2、薄膜的电学性质 | 第17-19页 |
| 3、薄膜的光学性质 | 第19-23页 |
| 4、折射率和消光系数与载流子浓度的关系 | 第23-25页 |
| 第四节 本章小结 | 第25-27页 |
| 第二章 大气下电流退火对ITO薄膜光电学性质的影响 | 第27-39页 |
| 第一节 引言 | 第27页 |
| 第二节 实验 | 第27-28页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第28-37页 |
| 1、晶体结构 | 第28-29页 |
| 2、光学性质 | 第29-32页 |
| 3、电学性质 | 第32-35页 |
| 4、讨论 | 第35-37页 |
| 第四节 本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 厚度和衬底温度对IN_2O_3-ZNO薄膜光电学性质的影响 | 第39-49页 |
| 第一节 引言 | 第39页 |
| 第二节 实验 | 第39-40页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第40-47页 |
| 1、光学性质 | 第40-43页 |
| 2、电学性质 | 第43-47页 |
| 第四节 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 个人简历 | 第61页 |
