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光学薄膜制备及其光学监控技术的研究

摘要第1-3页
Abstract第3-5页
中文文摘第5-7页
目录第7-9页
绪论第9-15页
 第一节 光学薄膜的发展第9页
 第二节 光学薄膜的应用第9-10页
 第三节 光学薄膜的制备技术第10-12页
 第四节 膜厚监控技术第12-13页
 第五节 本论文的研究内容第13-15页
第一章 基片温度和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响第15-23页
 第一节 引言第15-16页
 第二节 实验第16页
 第三节 结果与讨论第16-21页
 第四节 本章小结第21-23页
第二章 热蒸发沉积ZnS薄膜的光学不均质第23-33页
 第一节 引言第23页
 第二节 理论模型第23-26页
 第三节 实验与测量第26页
 第四节 结果与讨论第26-32页
 第五节 本章小结第32-33页
第三章 双单波长监控光学薄膜第33-43页
 第一节 引言第33-34页
 第二节 理论模型第34-37页
 第三节 模拟第37-38页
 第四节 实验结果第38-41页
 第五节 本章小结第41-43页
第四章 功能型材料氧化钒薄膜的特性研究第43-53页
 第一节 引言第43-44页
 第二节 实验过程第44页
 第三节 结果与讨论第44-51页
 第四节 本章小结第51-53页
第五章 结论第53-55页
参考文献第55-65页
攻读学位期间承担的科研任务与主要成果第65-67页
致谢第67-69页
个人简历第69页

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