| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究目的及意义 | 第10-14页 |
| ·氧化锌(ZnO)的基本结构和物理特性 | 第14-16页 |
| ·氧化锌薄膜的应用 | 第16-17页 |
| ·太阳能电池 | 第16页 |
| ·短波光电器件 | 第16页 |
| ·集成电器 | 第16页 |
| ·发光显示器件(LD) | 第16-17页 |
| ·与GaN互作缓冲层 | 第17页 |
| ·氧化锌薄膜的主要制备方法 | 第17-19页 |
| ·磁控溅射 | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第18页 |
| ·喷雾热解方法 | 第18页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第18页 |
| ·分子束外延法 | 第18-19页 |
| ·原子层外延生长法 | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19页 |
| ·国内外研究现状 | 第19-21页 |
| ·主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法与测试手段 | 第22-32页 |
| ·实验材料 | 第22-23页 |
| ·实验方案与流程 | 第23-25页 |
| ·溶胶-溶液的配置 | 第23-24页 |
| ·衬底的预处理 | 第24页 |
| ·薄膜生长过程与后期热处理 | 第24-25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·提拉镀膜机 | 第25-26页 |
| ·马弗退火炉 | 第26页 |
| ·测量分析方法 | 第26-31页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第26-29页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第29页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第29-30页 |
| ·光致发光光谱 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 Sol-gel法制备ZnO薄膜的生长工艺分析 | 第32-46页 |
| ·Sol-gel法的原理 | 第32-34页 |
| ·溶胶浓度对ZnO薄膜性能的影响 | 第34-38页 |
| ·溶胶浓度对ZnO薄膜结构及结晶性能的影响 | 第34-36页 |
| ·溶胶浓度对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·溶胶浓度对ZnO薄膜发光特性的影响 | 第37-38页 |
| ·衬底的预处理对ZnO薄膜结构性能的影响 | 第38-39页 |
| ·薄膜厚度对ZnO薄膜性能的影响 | 第39-44页 |
| ·薄膜厚度对ZnO薄膜结构及结晶性能的影响 | 第39-42页 |
| ·薄膜厚度对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·薄膜厚度对ZnO薄膜发光特性的影响 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 Sol-gel法制备ZnO薄膜的退火工艺分析 | 第46-53页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜结构及结晶性能的影响 | 第46-48页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第48-51页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜发光特性的影响 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 致谢 | 第62页 |