纳米孔阳极氧化铝膜的制备及分离特性研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
引言 | 第10-11页 |
1 文献综述 | 第11-32页 |
·无机膜的简介 | 第11-14页 |
·阳极氧化铝膜的形成及机理 | 第14-21页 |
·铝片电化学抛光技术 | 第14-19页 |
·阳极氧化技术 | 第19-20页 |
·阳极氧化膜的形成机理 | 第20-21页 |
·阳极氧化铝膜的结构 | 第21-22页 |
·阳极氧化铝膜的应用 | 第22-25页 |
·阳极氧化铝膜在功能材料方面的应用 | 第22-23页 |
·阳极氧化铝膜在分离方面的应用 | 第23-25页 |
·膜分离过程及分离模型 | 第25-29页 |
·膜分离的发展历史 | 第25-26页 |
·膜分离过程的特点 | 第26-28页 |
·膜分离过程的数学模型 | 第28-29页 |
·膜污染及清洗 | 第29-30页 |
·膜污染的定义及分类 | 第29页 |
·膜污染的影响因素及预防 | 第29-30页 |
·膜清洗 | 第30页 |
·本论文的选题依据和研究内容 | 第30-32页 |
2 铝片电化学抛光工艺研究 | 第32-40页 |
·实验仪器及材料 | 第32-33页 |
·药品及试剂 | 第32页 |
·实验设备及仪器 | 第32-33页 |
·实验方法 | 第33-34页 |
·预处理 | 第33页 |
·实验装置 | 第33页 |
·电化学抛光质量的分析 | 第33页 |
·铝片质量损失的测定 | 第33-34页 |
·电化学测试 | 第34页 |
·实验结果与讨论 | 第34-39页 |
·体系浓度对抛光质量的影响 | 第34-36页 |
·抛光电压对抛光质量的影响 | 第36-37页 |
·抛光温度对抛光质量的影响 | 第37-38页 |
·抛光时间对抛光质量的影响 | 第38-39页 |
·搅拌对抛光质量的影响 | 第39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
3 新型支撑体阳极氧化铝膜的制备及表征 | 第40-48页 |
·实验材料及仪器 | 第40-41页 |
·药品及试剂 | 第40页 |
·实验设备及仪器 | 第40-41页 |
·实验方法 | 第41-42页 |
·膜的制备 | 第41页 |
·膜的表征 | 第41-42页 |
·实验结果与讨论 | 第42-47页 |
·新型支撑体阳极氧化铝膜的宏观形貌 | 第42-44页 |
·新型支撑体阳极氧化铝膜的微观形貌表征 | 第44-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
4 制备条件对膜分离性能的影响 | 第48-60页 |
·实验材料与仪器 | 第48-49页 |
·实验材料 | 第48页 |
·实验仪器 | 第48-49页 |
·实验方法 | 第49-50页 |
·膜的制备 | 第49页 |
·BSA溶液的配制 | 第49页 |
·过滤装置 | 第49页 |
·膜通量及截留率的测定 | 第49-50页 |
·阻力分析 | 第50页 |
·结果与讨论 | 第50-59页 |
·不同氧化时间对膜分离性能的影响 | 第50-52页 |
·不同氧化电压对膜分离性能的影响 | 第52-54页 |
·支撑体制备时间对膜分离性能的影响 | 第54-56页 |
·不同浸蚀时间对膜分离性能的影响 | 第56-57页 |
·不同氧化次数对膜分离性能的影响 | 第57-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
5 操作条件对膜分离性能的影响 | 第60-74页 |
·实验材料与仪器 | 第60页 |
·实验材料 | 第60页 |
·实验仪器 | 第60页 |
·实验方法 | 第60-61页 |
·溶液温度对膜分离性能的影响 | 第61-63页 |
·操作压力对膜分离性能的影响 | 第63-66页 |
·不同操作压力对膜通量及截留率的影响 | 第63-64页 |
·不同操作压力条件下膜的分离模型 | 第64-66页 |
·溶液PH值对膜分离性能的影响 | 第66-67页 |
·溶液浓度对膜分离性能的影响 | 第67-70页 |
·不同BSA溶液浓度对膜通量的影响 | 第67-68页 |
·不同BSA浓度条件下膜的分离模型 | 第68-70页 |
·静态吸附对膜分离性能的影响 | 第70-71页 |
·膜的清洗 | 第71-73页 |
·超声清洗 | 第71页 |
·反冲洗 | 第71-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
结论 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-80页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第80-81页 |
致谢 | 第81-82页 |