基于ZnO薄膜电光检测的研究

内容提要	第1-8页
第一章 综述	第8-18页
·集成电路检测技术	第8-12页
·集成电路检测的目的及用途	第8-10页
·集成电路检测的种类	第10-12页
·电光探测技术	第12-16页
·研究现状与存在的问题	第12-14页
·本课题组电光探测的研究状况	第14-16页
·本论文的主要工作	第16-18页
第二章 电光检测技术的理论基础	第18-29页
·ZnO 的电光特性	第18-24页
·ZnO 材料结构与基本特性	第18-20页
·ZnO 薄膜的电光特性	第20-24页
·基于ZnO 薄膜电光检测的原理	第24-29页
·电光检测系统	第24-26页
·ZnO 探头的结构和工作原理	第26-29页
第三章 ZnO 材料的制备与测试	第29-46页
·ZnO 材料的制备方法	第29-39页
·制备方法的介绍	第29-32页
·XRD 检测晶向原理	第32-34页
·磁控溅射制备的ZnO 薄膜	第34-39页
·ZnO 薄膜电光探头的检测	第39-45页
·ZnO 的透射谱	第39-40页
·原子力显微镜检测	第40-41页
·微区化学组分测试	第41-42页
·微区XRD 的测试	第42-43页
·微区二次谐波的检测	第43-45页
·小节	第45-46页
第四章 外部电光探头的实验和讨论	第46-58页
·电光探头空间分辨率的研究	第46-47页
·GaAs 探头的实验研究	第47-54页
·GaAs 探头的制作	第48-49页
·GaAs 探头的电光检测特性	第49-52页
·GaAs 探头的电压校准	第52-54页
·ZnO 探头的实验研究	第54-55页
·共面波导的测量	第55-58页
第五章 结论	第58-60页
参考文献	第60-64页
致谢	第64-65页
摘要	第65-67页
Abstract	第67-68页