| 论文提要 | 第1-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-20页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·超硬薄膜材料介绍 | 第7-16页 |
| ·本征硬质薄膜 | 第8页 |
| ·纳米多层膜和纳米复合膜 | 第8-16页 |
| ·超硬薄膜的制备技术 | 第16-18页 |
| ·本文选题依据及主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 磁控溅射法制备WC_xN_y和NbC_xN_y薄膜及其表征 | 第20-33页 |
| ·磁控溅射方法的工作原理 | 第20-23页 |
| ·实验设备 | 第23页 |
| ·WC_xN_y 和NbC_xN_y 薄膜的实验条件 | 第23-25页 |
| ·实验材料 | 第23-24页 |
| ·衬底的预处理 | 第24页 |
| ·实验参数 | 第24-25页 |
| ·样品的表征 | 第25-33页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| ·纳米压痕仪(Nanoindentation) | 第26-29页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第29-31页 |
| ·掠入射X 射线衍射（GIXD） | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第31页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第31-33页 |
| 第3章 氮掺杂对碳化钨薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第33-39页 |
| ·N 掺杂对碳化钨薄膜微观结构的影响 | 第33-37页 |
| ·N 掺杂对碳化钨薄膜应力和硬度的影响 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 WC_xN_y薄膜的微观结构及力学性能研究 | 第39-56页 |
| ·衬底偏压对WC_xN_y 薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第39-45页 |
| ·CH_4 流量对WC_xN_y 薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第45-50页 |
| ·衬底温度对WC_xN_y 薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第50-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 CH_4流量对NbC_xN_y薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第56-62页 |
| ·CH_4 流量对NbC_xN_y 薄膜微观结构的影响 | 第56-60页 |
| ·CH_4 流量对NbCxNy 薄膜硬度的影响 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第6章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-73页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 中文摘要 | 第74-76页 |
| Abstract | 第76-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
