| 中文摘要 | 第1-14页 |
| Abstract | 第14-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-55页 |
| ·多孔硅的制备 | 第18-21页 |
| ·一般的制备方法 | 第18-20页 |
| ·制备多孔硅的新技术 | 第20页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第20-21页 |
| ·多孔硅的发光性质 | 第21-25页 |
| ·光致发光 | 第21-22页 |
| ·电致发光 | 第22页 |
| ·多孔硅的发光机理 | 第22-25页 |
| ·多孔硅的钝化及表面修饰 | 第25-29页 |
| ·非金属元素的表面钝化 | 第25-27页 |
| ·金属修饰多孔硅表面 | 第27-28页 |
| ·有机高分子修饰多孔硅表面 | 第28页 |
| ·多孔硅表面的生物功能性修饰 | 第28-29页 |
| ·多孔硅在器件上的应用 | 第29-36页 |
| ·基于多孔硅的光电器件 | 第29-31页 |
| ·多孔硅化学传感器 | 第31-34页 |
| ·气体传感器 | 第31-33页 |
| ·多孔硅对离子的传感 | 第33-34页 |
| ·多孔硅生物传感器 | 第34-36页 |
| ·本课题选题依据 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-55页 |
| 第二章 多孔硅的制备及氧化处理 | 第55-62页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·试剂及仪器 | 第55页 |
| ·实验过程 | 第55-57页 |
| ·硅片的清洗 | 第55-56页 |
| ·硅片的光电化学刻蚀 | 第56页 |
| ·多孔硅的稳定性处理及清洗 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-60页 |
| ·硝酸处理前后多孔硅的荧光强度比较 | 第57-58页 |
| ·红外光谱分析（FTIR） | 第58页 |
| ·硝酸氧化时间对荧光强度的影响 | 第58-59页 |
| ·讨论 | 第59-60页 |
| ·结论 | 第60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第三章 新生多孔硅表面的银粒子自组装 | 第62-71页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·实验过程 | 第62-63页 |
| ·试剂及仪器 | 第62-63页 |
| ·多孔硅刻蚀 | 第63页 |
| ·硝酸银溶液处理多孔硅 | 第63页 |
| ·结果与讨论 | 第63-69页 |
| ·扫描电镜形貌观察结果 | 第63-64页 |
| ·浸泡时间和 AgNO_3 溶液浓度对多孔硅光致发光的影响 | 第64-66页 |
| ·样品的红外光谱分析 | 第66页 |
| ·样品的X 光电子能谱分析 | 第66-69页 |
| ·结论 | 第69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 第四章 多孔硅复合结构对尿素传感性能的研究 | 第71-77页 |
| ·引言 | 第71页 |
| ·试剂及仪器 | 第71页 |
| ·实验 | 第71-72页 |
| ·多孔硅的制备 | 第71页 |
| ·光氧化稳定性处理多孔硅 | 第71-72页 |
| ·尿素的吸附与电性质测量 | 第72页 |
| ·结果与讨论 | 第72-76页 |
| ·电化学刻蚀得到多孔硅的扫描电镜显微照片 | 第72-73页 |
| ·两种器件结构和对应的电流（I）-电压（V） | 第73页 |
| ·Al/PS/Si/Al 结构lgI～V 关系和电流浓度关系 | 第73-74页 |
| ·Al-PS-Al 结构的lgI～V 关系和电流浓度关系 | 第74-76页 |
| ·结论 | 第76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第五章 多孔硅电极对抗坏血酸的检测 | 第77-82页 |
| ·引言 | 第77-78页 |
| ·试剂及仪器 | 第78页 |
| ·实验 | 第78页 |
| ·多孔硅的阴极稳定性处理 | 第78页 |
| ·阴极稳定性处理的多孔硅的测量抗坏血酸溶液 | 第78页 |
| ·结果与讨论 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-82页 |
| 第六章 全文总结 | 第82-84页 |
| 硕士期间发表的论文目录 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
