| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-37页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·本征硬质薄膜 | 第13-14页 |
| ·非本征硬质薄膜 | 第14-16页 |
| ·纳米复合膜 | 第14-15页 |
| ·纳米多层膜 | 第15-16页 |
| ·纳米多层膜中的生长和强化机制 | 第16-25页 |
| ·纳米多层膜的生长机制 | 第16-19页 |
| ·纳米多层膜的强化机制 | 第19-25页 |
| ·纳米多层膜的材料体系 | 第25-28页 |
| ·金属/金属体系 | 第25页 |
| ·金属/陶瓷体系 | 第25-26页 |
| ·陶瓷/陶瓷体系 | 第26-28页 |
| ·纳米多层膜的设计准则 | 第28-29页 |
| ·本论文的设计思想和研究内容 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-37页 |
| 第二章 薄膜的制备与检测 | 第37-45页 |
| ·镀膜设备 | 第37页 |
| ·薄膜检测设备与检测方法 | 第37-44页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第37-38页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第38页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第38-39页 |
| ·能量散布光谱仪(EDX) | 第39页 |
| ·X 射线光电子能谱仪(XPS) | 第39页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第39-40页 |
| ·纳米力学探针(Nano-indenter) | 第40-42页 |
| ·本论文中的特殊硬度测量方法 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第三章 陶瓷靶溅射 VC 薄膜：靶成分、气压和温度的影响 | 第45-55页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·薄膜的设计与制备 | 第46-47页 |
| ·实验结果 | 第47-51页 |
| ·VC-I 薄膜成分、微结构和力学性能 | 第47-50页 |
| ·VC-II 薄膜成分、微结构和力学性能 | 第50-51页 |
| ·讨论 | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第四章 同晶体结构碳化物/碳化物纳米多层膜(VC/TiC):调制层化学计量比对超硬效应的影响 | 第55-68页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·薄膜的设计与制备 | 第55-57页 |
| ·实验结果 | 第57-61页 |
| ·A 系列VC/TiC 多层膜 | 第57-59页 |
| ·B 系列VC/TiC 多层膜 | 第59-61页 |
| ·讨论 | 第61-66页 |
| ·多层膜的共格生长与共格应变 | 第62-63页 |
| ·多层膜晶面间距的改变(Z 向应变) | 第63-65页 |
| ·多层膜的强化 | 第65-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第五章 同晶体结构碳化物/氮化物纳米多层膜(VC/TiN):调制结构参数对超硬效应的影响 | 第68-84页 |
| ·引言 | 第68-69页 |
| ·薄膜的设计和制备 | 第69-71页 |
| ·实验结果 | 第71-78页 |
| ·固定调制比的多层膜(A 系列) | 第71-74页 |
| ·变TiN 层厚的多层膜(B 系列) | 第74-76页 |
| ·变VC 层厚的多层膜(C 系列) | 第76-78页 |
| ·讨论 | 第78-81页 |
| ·多层膜的生长 | 第78-80页 |
| ·多层膜的超硬效应 | 第80-81页 |
| ·小结 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-84页 |
| 第六章 异晶体结构碳化物/硼化物纳米多层膜(VC/TiB2):调制结构参数对超硬效应的影响 | 第84-98页 |
| ·引言 | 第84页 |
| ·薄膜的设计和制备 | 第84-86页 |
| ·实验结果 | 第86-94页 |
| ·固定调制比的多层膜(A 系列) | 第86-89页 |
| ·改变TiB_2 层厚的多层膜(B 系列) | 第89-91页 |
| ·改变VC 层厚的多层膜(C 系列) | 第91-94页 |
| ·讨论 | 第94-96页 |
| ·小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-98页 |
| 第七章 非晶体晶化的纳米多层膜(VC /SiC、VC/AlN):碳化物的模板作用对超硬效应的影响 | 第98-112页 |
| ·引言 | 第98-99页 |
| ·薄膜的制备 | 第99-100页 |
| ·实验结果 | 第100-107页 |
| ·VC/SiC 纳米多层膜 | 第100-103页 |
| ·VC/AlN 纳米多层膜 | 第103-107页 |
| ·讨论 | 第107-108页 |
| ·多层膜的生长结构 | 第107-108页 |
| ·多层膜的超硬效应 | 第108页 |
| ·小结 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-112页 |
| 第八章 反应溅射 VC、HfC 薄膜：气体分压的影响 | 第112-123页 |
| ·引言 | 第112页 |
| ·薄膜的制备 | 第112-113页 |
| ·实验结果与讨论 | 第113-121页 |
| ·VC 薄膜成分、微结构和力学性能 | 第113-117页 |
| ·HfC 薄膜成分、微结构和力学性能 | 第117-121页 |
| ·小结 | 第121-122页 |
| 参考文献 | 第122-123页 |
| 第九章 非晶体晶化的纳米多层膜(VC/Si_3N_4、HfC/Si_3N_4):反应溅射制备技术 | 第123-134页 |
| ·引言 | 第123页 |
| ·薄膜的制备 | 第123-125页 |
| ·实验结果 | 第125-132页 |
| ·Si3N4 在C2H2 气氛中的存在形态 | 第125页 |
| ·VC/Si3N4 纳米多层膜 | 第125-128页 |
| ·HfC/Si3N4 纳米多层膜 | 第128-132页 |
| ·讨论 | 第132页 |
| ·小结 | 第132-133页 |
| 参考文献 | 第133-134页 |
| 第十章 纳米多层膜中若干关键问题的讨论 | 第134-148页 |
| ·纳米多层膜的强化机制 | 第135-137页 |
| ·高硬度纳米多层膜的材料体系 | 第137-139页 |
| ·纳米多层膜调制结构参数设计 | 第139-144页 |
| ·小结 | 第144-145页 |
| 参考文献 | 第145-148页 |
| 第十一章 结论、创新点与展望 | 第148-152页 |
| ·主要结论 | 第148-150页 |
| ·主要创新点 | 第150-151页 |
| ·展望 | 第151-152页 |
| 致谢 | 第152-153页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第153-155页 |
