| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| ·前言 | 第11-13页 |
| ·二氧化钛概述 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛的优缺点 | 第13页 |
| ·纳米二氧化钛的制备与改性 | 第13-16页 |
| ·纳米二氧化钛的制备方法 | 第13-15页 |
| ·纳米二氧化钛的改性方法 | 第15-16页 |
| ·二氧化钛纳米管阵列 | 第16-20页 |
| ·电化学阳极氧化的原理 | 第17-19页 |
| ·二氧化钛纳米管阵列的制备 | 第19-20页 |
| ·二氧化钛纳米管阵列薄膜的应用 | 第20页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第20-22页 |
| 第2章 实验方法与表征 | 第22-30页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第22-23页 |
| ·实验试剂 | 第22-23页 |
| ·实验仪器 | 第23页 |
| ·结构和形貌表征 | 第23-24页 |
| ·物相分析 | 第23-24页 |
| ·表面形貌和微观结构分析 | 第24页 |
| ·材料合成 | 第24-25页 |
| ·钛片的预处理 | 第24页 |
| ·半导体复合纳米Ti02薄膜的制备 | 第24-25页 |
| ·材料的净化性能测试 | 第25-26页 |
| ·材料抗菌性能的定性测试 | 第26-27页 |
| ·实验器材及材料的预处理 | 第26页 |
| ·菌种的活化、转种与保存 | 第26页 |
| ·染菌平板的制备 | 第26-27页 |
| ·样片的制备与贴放 | 第27页 |
| ·定性抗菌性能评价 | 第27页 |
| ·材料抗菌性能的定量测试 | 第27-30页 |
| ·实验器材及材料的预处理 | 第27-28页 |
| ·菌液稀释浓度的选取 | 第28页 |
| ·样品的定量抗菌实验 | 第28-29页 |
| ·定量抗菌性能评价 | 第29-30页 |
| 第3章 纳米TiO_2薄膜的制备工艺参数 | 第30-44页 |
| ·甲基橙溶液的基本参数 | 第30-33页 |
| ·甲基橙溶液的最大吸收波长 | 第30页 |
| ·甲基橙溶液标准曲线 | 第30-31页 |
| ·甲基橙初始浓度对光催化性能的影响 | 第31-33页 |
| ·纳米TiO_2薄膜制备的工艺参数 | 第33-39页 |
| ·阳极氧化时间对光催化性能的影响 | 第33-35页 |
| ·阳极氧化电压对光催化性能的影响 | 第35-36页 |
| ·煅烧温度对光催化性能的影响 | 第36-39页 |
| ·TiO_2纳米管阵列薄膜的结构及形貌分析 | 第39-42页 |
| ·不同煅烧温度的物相分析 | 第39-41页 |
| ·形貌分析 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 ZnS复合纳米TiO_2薄膜的制备及抗菌净化性能研究 | 第44-53页 |
| ·ZnS/TiO_2薄膜的制备 | 第44页 |
| ·正交试验设计 | 第44-51页 |
| ·浸泡时间和溶液浓度的确定 | 第44-45页 |
| ·正交试验方案的设计 | 第45-47页 |
| ·正交试验结果分析 | 第47-49页 |
| ·正交试验结果修正 | 第49-51页 |
| ·纳米ZnS/TiO_2薄膜的抗菌性能 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 银系复合纳米WiO_2薄膜的制备及抗菌净化性能研究 | 第53-63页 |
| ·Ag/Ag_2S/TiO_2纳米薄膜的抗菌净化性能研究 | 第53-56页 |
| ·Ag/Ag_3PO_4/TiO_2纳米管阵列薄膜的抗菌净化性能研究 | 第56-59页 |
| ·不同半导体复合改性抗菌净化性能比较 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第6章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
