| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 半导体光催化 | 第8-14页 |
| 1.1.1 光催化反应机理 | 第8-9页 |
| 1.1.2 光催化材料的发展历程 | 第9-10页 |
| 1.1.3 光催化反应的类型 | 第10-14页 |
| 1.1.4 光催化材料的实际应用 | 第14页 |
| 1.2 光催化材料存在问题和解决措施 | 第14-18页 |
| 1.2.1 能带工程 | 第14-16页 |
| 1.2.2 形貌结构 | 第16页 |
| 1.2.3 助催化剂 | 第16-17页 |
| 1.2.4 表面等离子体共振效应(LSPR) | 第17-18页 |
| 1.3 Ga_(2-x)In_xO_3和Ga(In)ON光催化材料的研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3.1 Ga_(2-x)In_xO_3和Ga(In)ON光催化材料的概述 | 第19页 |
| 1.3.2 Ga_(2-x)In_xO_3和Ga(In)ON光催化材料的制备与性能表征 | 第19-21页 |
| 1.4 课题意义及主要研究工作 | 第21-22页 |
| 第2章 实验药品、仪器及表征方法 | 第22-30页 |
| 2.1 实验药品和仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第22页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.2 材料表征方法 | 第23-26页 |
| 2.3 材料性能测试 | 第26-30页 |
| 2.3.1 光催化CO_2还原活性评价 | 第26-27页 |
| 2.3.2 材料光电化学测试 | 第27-30页 |
| 第3章 Ga_(2-x)In_xO_3光催化材料的制备、表征及性能分析 | 第30-44页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 Ga_(2-x)In_xO_3光催化材料的制备 | 第30-32页 |
| 3.3 Ga_(2-x)In_xO_3光催化材料的表征和性能分析 | 第32-42页 |
| 3.3.1 物相与结构分析 | 第32-35页 |
| 3.3.2 形貌与成分分析 | 第35-37页 |
| 3.3.3 比表面积分析 | 第37页 |
| 3.3.4 光学性能分析 | 第37-38页 |
| 3.3.5 二氧化碳光还原性能测试 | 第38-41页 |
| 3.3.6 二氧化碳光还原稳定性测试 | 第41页 |
| 3.3.7 光电化学测试 | 第41-42页 |
| 3.3.8 二氧化碳光还原性能分析 | 第42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 Ga(In)ON光催化材料的制备、表征及性能分析 | 第44-50页 |
| 4.1 引言 | 第44-45页 |
| 4.2 Ga(In)ON光催化材料的制备 | 第45-47页 |
| 4.3 Ga(In)ON光催化材料的表征和性能分析 | 第47-49页 |
| 4.3.1 光学性能分析 | 第47-48页 |
| 4.3.2 二氧化碳光还原性能测试 | 第48-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 全文结论及展望 | 第50-52页 |
| 5.1 全文结论 | 第50-51页 |
| 5.2 全文创新点 | 第51页 |
| 5.3 课题展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-60页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
