| 提要 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-9页 |
| Abstract | 第9-15页 |
| 第一章 引言 | 第15-25页 |
| ·绪论 | 第15-16页 |
| ·ZnO 材料的基本物理性质及应用 | 第16-17页 |
| ·ZnO 材料的研究热点及进展 | 第17-19页 |
| ·论文的选题依据和研究内容 | 第19-22页 |
| 参考文献 | 第22-25页 |
| 第二章 ZnO 薄膜、纳米线材料的制备及常用样品表征测试手段 | 第25-41页 |
| ·实验设备-薄膜的制备 | 第25-30页 |
| ·化学气相传输(CVD)-纳米线的制备和生长 | 第30-32页 |
| ·相关表征及测试手段 | 第32-40页 |
| ·X-射线衍射仪(XRD) | 第32页 |
| ·微区拉曼光谱(Raman) | 第32-33页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第33-34页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第34-35页 |
| ·微区稳态光致发光谱(PL)和时间分辨光致发光谱(TRP | 第35-36页 |
| ·电学性质测量方法－霍尔效应(Hall effect) | 第36-37页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第37-38页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第38页 |
| ·超导量子干涉仪(SQUID) | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第三章 后热处理对未掺杂ZnO 薄膜导电类型的影响和相关机制 | 第41-56页 |
| 前言 | 第41页 |
| ·热氧化退火设备介绍、实验参数调节 | 第41-43页 |
| ·射频磁控溅射制备未掺杂ZnO 薄膜样品制备 | 第43-44页 |
| ·实验结果和讨论 | 第44-53页 |
| ·ZnO 薄膜样品晶体结构研究 | 第44-46页 |
| ·未掺杂ZnO 薄膜的电学性质随退火温度的变化 | 第46-48页 |
| ·ZnO 薄膜样品成分分析 | 第48-49页 |
| ·退火温度对未掺杂 ZnO 薄膜样品光学特性影响及机制 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第四章 未掺杂高结晶质量一维ZnO纳米线阵列的合成和非线性超快激光光谱及载流子弛豫动力学特性研究 | 第56-72页 |
| ·前言 | 第56-57页 |
| ·实验结果和讨论 | 第57-68页 |
| ·化学气相传输法生长ZnO 纳米材料 | 第57页 |
| ·ZnO 纳米线的结构和形貌分析 | 第57-59页 |
| ·ZnO 纳米线的化学成分分析 | 第59-60页 |
| ·ZnO 纳米线的光学性质分析-超快飞秒时间分辨光致发光谱(TRPL) | 第60-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 第五章 氮化锌薄膜及 Mn、N 共掺 ZnO 薄膜的制备和结构、磁学特性研究 | 第72-95页 |
| ·前言 | 第72-74页 |
| ·实验结果和讨论 | 第74-78页 |
| ·氮化锌薄膜的制备 | 第74页 |
| ·衬底温度对氮化锌薄膜晶体质量和成分的影响 | 第74-78页 |
| ·Mn、N 共掺杂ZnO 薄膜 | 第78-85页 |
| ·Mn、N 共掺杂ZnO 薄膜的制备 | 第78-79页 |
| ·Mn、N 共掺杂ZnO 薄膜的结构、成分分析 | 第79-85页 |
| ·Mn、N 共掺杂ZnO 薄膜的光学及导电性能表征 | 第85-86页 |
| ·Mn、N 共掺杂ZnO 薄膜的磁学特性研究 | 第86-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-95页 |
| 第六章 全文总结 | 第95-97页 |
| 攻读博士学位期间承担的主要工作及成果 | 第97-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
| 作者简介 | 第101页 |
