| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 大面积光调制器技术概述 | 第12-13页 |
| 1.2 大面积线性电光调制器的发展现状 | 第13-14页 |
| 1.3 大面积量子限制斯塔克效应电吸收光调制器的发展现状 | 第14-20页 |
| 1.3.1 大面积QCSE EAM的应用背景 | 第14-17页 |
| 1.3.2 大面积QCSE EAM的关键技术 | 第17-19页 |
| 1.3.3 目前存在的一些问题 | 第19-20页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 基于QCSE EAM回波调制的距离测量机理研究 | 第22-38页 |
| 2.1 基于回波光调制的距离测量基本原理 | 第22-24页 |
| 2.2 距离测量值标准差的影响因素 | 第24-28页 |
| 2.2.1 标准差传递方程 | 第24-25页 |
| 2.2.2 光电探测器光响应的随机分布 | 第25页 |
| 2.2.3 距离测量值的标准差方程 | 第25-27页 |
| 2.2.4 延迟精度对距离测量值的影响 | 第27-28页 |
| 2.3 距离测量值标准差的定量研究 | 第28-35页 |
| 2.3.1 QCSE EAM的瞬态响应 | 第28-29页 |
| 2.3.2 光源的瞬态响应 | 第29-30页 |
| 2.3.3 距离测量值随机分布的定量研究 | 第30-35页 |
| 2.3.3.1 QCSE EAM器件和光源的驱动 | 第30-31页 |
| 2.3.3.2 定量研究 | 第31-33页 |
| 2.3.3.3 延迟精度对测量值影响的定量分析 | 第33-35页 |
| 2.4 仿真实验 | 第35-37页 |
| 2.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 大面积QCSE EAM的传输矩阵法设计研究 | 第38-58页 |
| 3.1 电吸收光调制器的原理 | 第38-39页 |
| 3.2 电场下量子阱材料的光学特性 | 第39-44页 |
| 3.2.1 电场下量子阱材料的光学特性理论 | 第39-40页 |
| 3.2.2 等效势阱法求解电场下量子阱中激子的波函数和能级 | 第40-42页 |
| 3.2.3 电场下量子阱材料的光学特性 | 第42-44页 |
| 3.3 大面积QCSE EAM的传输矩阵法设计 | 第44-49页 |
| 3.3.1 外置偏压下的器件内电场分布 | 第44-45页 |
| 3.3.2 传输矩阵法 | 第45-47页 |
| 3.3.3 工作波长的选择 | 第47-49页 |
| 3.4 光学特性的优化设计研究 | 第49-56页 |
| 3.4.1 单光学谐振腔结构的优化设计 | 第50-52页 |
| 3.4.2 多光学谐振腔结构的优化设计 | 第52-54页 |
| 3.4.3 宽角度反射型器件设计 | 第54-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 基于光学成像矢量理论的大面积QCSE EAM设计研究 | 第58-82页 |
| 4.1 光学成像的矢量理论概述 | 第58页 |
| 4.2 偏振像差理论概述 | 第58-60页 |
| 4.2.1 偏振光的琼斯矩阵 | 第58-59页 |
| 4.2.2 偏振像差相关研究概述 | 第59-60页 |
| 4.3 德拜矢量衍射积分 | 第60-62页 |
| 4.4 基于矢量平面波谱的光学成像矢量模型 | 第62-66页 |
| 4.5 平面光学元件偏振特性对像质的影响 | 第66-70页 |
| 4.5.1 平面光学元件偏振特性对像质影响的因素 | 第66-68页 |
| 4.5.2 平面光学元件偏振特性对像质影响的评价 | 第68-70页 |
| 4.6 偏振双向衰减对光学成像影响的定量分析 | 第70-73页 |
| 4.6.1 数值计算 | 第70-72页 |
| 4.6.2 理论分析和讨论 | 第72-73页 |
| 4.7 偏振相位延迟对光学成像影响的定量分析 | 第73-75页 |
| 4.7.1 影响因素 | 第73-74页 |
| 4.7.2 数值计算 | 第74-75页 |
| 4.8 器件偏振特性的优化 | 第75-79页 |
| 4.8.1 器件偏振特性对像质的影响 | 第76-77页 |
| 4.8.2 器件偏振特性的优化 | 第77-79页 |
| 4.9 器件金属电极对像质的影响 | 第79-81页 |
| 4.10 本章小结 | 第81-82页 |
| 第五章 高消光比光纤阵列光开关研制 | 第82-106页 |
| 5.1 光纤阵列光开关技术及应用概述 | 第82页 |
| 5.2 光纤阵列光开关的总体框架 | 第82-83页 |
| 5.3 入射角对DKDP晶体纵向调制的影响 | 第83-93页 |
| 5.3.1 单色平面波在各向异性介质中的传播 | 第83-84页 |
| 5.3.2 DKDP晶体的纵向调制 | 第84-87页 |
| 5.3.3 平面波在晶体中折射的数值计算 | 第87-89页 |
| 5.3.4 入射角对DKDP晶体纵向调制的影响 | 第89-93页 |
| 5.4 光纤准直器的优化设计研究 | 第93-101页 |
| 5.4.1 单模光纤的光传输理论 | 第93-94页 |
| 5.4.2 基模高斯光束的传输理论 | 第94-95页 |
| 5.4.3 光纤准直器的几何光学讨论 | 第95-99页 |
| 5.4.4 光纤准直器的高斯光束优化设计 | 第99-101页 |
| 5.5 设备总装和测试 | 第101-105页 |
| 5.5.1 光纤准直器的测试 | 第101-102页 |
| 5.5.2 总装方案与设备总装 | 第102-104页 |
| 5.5.2.1 总装方案 | 第102-103页 |
| 5.5.2.2 设备总装 | 第103-104页 |
| 5.5.3 静态和动态测试 | 第104-105页 |
| 5.6 本章小结 | 第105-106页 |
| 第六章 总结与展望 | 第106-110页 |
| 6.1 本文的主要结论 | 第106-107页 |
| 6.2 本文的创新性 | 第107-108页 |
| 6.3 下一步的展望 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-118页 |
| 附录: 英文缩写对照表 | 第118-120页 |
| 在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第120-121页 |
