摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
主要符号表 | 第23-24页 |
1 绪论 | 第24-56页 |
1.1 红外隐身机理 | 第25-32页 |
1.1.1 近红外隐身屏蔽机理 | 第25-30页 |
1.1.2 中远红外隐身机理 | 第30-32页 |
1.2 近红外与中远红外隐身材料设计思路 | 第32-40页 |
1.2.1 近红外隐身高分子材料设计思路 | 第32-38页 |
1.2.2 中远红外隐身高分子材料设计原则 | 第38-40页 |
1.3 近红外和中远红外隐身材料研究现状 | 第40-52页 |
1.3.1 国内外近红外吸收高分子材料研究进展 | 第40-47页 |
1.3.2 国内外低发射率中远红外隐身高分子材料研究进展 | 第47-52页 |
1.4 红外兼容性隐身材料研究现状与发展趋势 | 第52-53页 |
1.5 本论文的研究思路 | 第53-56页 |
2 以噻吩为给体和二氮杂萘酮为受体的含砜酮结构聚合物的合成及其性能 | 第56-73页 |
2.1 引言 | 第56-57页 |
2.2 实验部分 | 第57-62页 |
2.2.1 原料与试剂 | 第57-58页 |
2.2.2 表征设备与仪器 | 第58-59页 |
2.2.3 单体和聚合物的合成 | 第59-62页 |
2.3 结果与讨论 | 第62-71页 |
2.3.1 单体和聚合物的合成与表征 | 第62-66页 |
2.3.2 单体和聚合物的热性能 | 第66-67页 |
2.3.3 单体和聚合物的DFT理论模拟结构分析 | 第67-68页 |
2.3.4 单体和聚合物的紫外-可见光吸收和荧光光谱分析 | 第68-70页 |
2.3.5 单体和聚合物的能隙研究 | 第70-71页 |
2.3.6 聚合物的薄膜聚集态研究 | 第71页 |
2.4 本章小结 | 第71-73页 |
3 以噻吩和咔唑单元为给体和二氮杂萘酮结构为受体的共聚物合成及其性能 | 第73-87页 |
3.1 引言 | 第73-74页 |
3.2 实验部分 | 第74-77页 |
3.2.1 原料与试剂 | 第74页 |
3.2.2 表征设备与仪器 | 第74页 |
3.2.3 单体和聚合物的合成 | 第74-77页 |
3.3 结果与讨论 | 第77-86页 |
3.3.1 单体和聚合物的合成与表征 | 第77-80页 |
3.3.2 单体和聚合物的热性能 | 第80-81页 |
3.3.3 聚合物的DFT理论模拟结构分析 | 第81-82页 |
3.3.4 聚合物的紫外-可见光吸收和荧光光谱 | 第82-84页 |
3.3.5 聚合物的能隙研究 | 第84-85页 |
3.3.6 聚合物薄膜的聚集态研究 | 第85-86页 |
3.4 本章小结 | 第86-87页 |
4 以双联和三联噻吩为给体与二氮杂萘酮为受体的含十氟联苯结构聚合物的合成及其性能 | 第87-107页 |
4.1 引言 | 第87-88页 |
4.2 实验部分 | 第88-92页 |
4.2.1 原料与试剂 | 第88页 |
4.2.2 测试设备与仪器 | 第88页 |
4.2.3 单体和聚合物的合成 | 第88-92页 |
4.3 结果与讨论 | 第92-106页 |
4.3.1 单体的合成 | 第92页 |
4.3.2 单体的分子结构和能级轨道模拟 | 第92-95页 |
4.3.3 单体的紫外-可见吸收和荧光光谱 | 第95-96页 |
4.3.4 聚合物的合成 | 第96-100页 |
4.3.5 聚合物的热性能和疏水性 | 第100-103页 |
4.3.6 聚合物的分子结构和能级轨道模拟 | 第103页 |
4.3.7 聚合物的紫外-可见吸收和荧光光谱 | 第103-104页 |
4.3.8 聚合物的能隙研究 | 第104-105页 |
4.3.9 聚合物薄膜的聚集态研究 | 第105-106页 |
4.4 本章小结 | 第106-107页 |
5 以多元噻吩杂环类衍生物为给体和二氮杂萘酮为受体的聚合物合成及其性能 | 第107-124页 |
5.1 引言 | 第107-109页 |
5.2 实验部分 | 第109-112页 |
5.2.1 原料与试剂 | 第109页 |
5.2.2 测试设备与仪器 | 第109页 |
5.2.3 单体和聚合物的合成 | 第109-112页 |
5.3 结果与讨论 | 第112-122页 |
5.3.1 单体和聚合物的合成 | 第112-115页 |
5.3.2 聚合物的热性能 | 第115-116页 |
5.3.3 聚合物的构型和能级轨道模拟 | 第116-118页 |
5.3.4 聚合物的紫外-可见-近红外吸收和荧光光谱 | 第118-121页 |
5.3.5 聚合物的能隙研究 | 第121页 |
5.3.6 聚合物薄膜的聚集态研究 | 第121-122页 |
5.4 本章小结 | 第122-124页 |
6 配体交换后聚合改性方法合成含镍配位硫代双烯结构聚芳醚及其性能 | 第124-150页 |
6.1 引言 | 第124-125页 |
6.2 实验部分 | 第125-131页 |
6.2.1 原料与试剂 | 第125-126页 |
6.2.2 测试设备与仪器 | 第126-127页 |
6.2.3 单体和聚合物的合成 | 第127-131页 |
6.3 结果与讨论 | 第131-149页 |
6.3.1 小分子化合物的合成 | 第131-134页 |
6.3.2 聚合物的合成和后聚合改性 | 第134-137页 |
6.3.3 聚合物的近红外吸收性能 | 第137-139页 |
6.3.4 配体交换后聚合改性机理的发现与验证 | 第139-143页 |
6.3.5 聚合物的电化学性质与能隙 | 第143页 |
6.3.6 聚合物的耐老化性能 | 第143-145页 |
6.3.7 聚合物薄膜的力学性能 | 第145-146页 |
6.3.8 聚合物的近红外隐身性能 | 第146页 |
6.3.9 聚合物的中远红外隐身性能 | 第146-147页 |
6.3.10 聚合物的微波隐身性能 | 第147-149页 |
6.4 本章小结 | 第149-150页 |
7 含硫代双烯和希夫碱结构的双金属配位共轭高分子涂层的制备及其性能 | 第150-168页 |
7.1 引言 | 第150-151页 |
7.2 实验部分 | 第151-153页 |
7.2.1 原料与试剂 | 第151-152页 |
7.2.2 测试设备与仪器 | 第152页 |
7.2.3 聚合物的合成 | 第152-153页 |
7.3 结果与讨论 | 第153-167页 |
7.3.1 涂层的制备工艺探究 | 第153-158页 |
7.3.2 双金属配位涂层的制备及其中远红外发射率测试 | 第158-160页 |
7.3.3 双金属涂层的结构表征探讨 | 第160-163页 |
7.3.4 涂层的近红外吸收性能 | 第163-164页 |
7.3.5 涂层的近红外隐身性能 | 第164-165页 |
7.3.6 涂层的微波隐身性能 | 第165-167页 |
7.4 本章小结 | 第167-168页 |
8 结论与展望 | 第168-171页 |
8.1 结论 | 第168-169页 |
8.2 创新点 | 第169页 |
8.3 展望 | 第169-171页 |
参考文献 | 第171-189页 |
附录A 以噻吩为给体和二氮杂萘酮为受体的含砜酮结构聚合物的合成及其性能 | 第189-195页 |
附录B 以噻吩和咔唑单元为给体和二氮杂萘酮结构为受体的共聚物合成及其性能 | 第195-204页 |
附录C 以双联和三联噻吩为给体与二氮杂萘酮为受体的含十氟联苯结构聚合物的合成及其性能 | 第204-212页 |
附录D 以多元噻吩杂环类衍生物为给体和二氮杂萘酮为受体的聚合物合成及其性能 | 第212-226页 |
附录E 配体交换后聚合改性方法合成含镍配位硫代双烯结构聚芳醚及其性能 | 第226-247页 |
附录F 含硫代双烯和希夫碱结构的双金属配位共轭高分子涂层的制备及其性能 | 第247-254页 |
攻读博士学位期间科研项目及科研成果 | 第254-257页 |
致谢 | 第257-258页 |
作者简介 | 第258页 |