太阳能用薄膜的制备与分析
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-24页 |
| ·太阳能利用的意义 | 第9-11页 |
| ·太阳能概况 | 第9页 |
| ·太阳能资源的主要优缺点 | 第9-11页 |
| ·太阳能光伏技术 | 第11-19页 |
| ·太阳能光伏技术 | 第11-12页 |
| ·太阳能电池的研究状况 | 第12-17页 |
| ·柔性衬底上非晶硅薄膜太阳能电池 | 第17-19页 |
| ·太阳能光热技术 | 第19-24页 |
| ·太阳能光热技术概述 | 第19页 |
| ·太阳能热水器 | 第19-21页 |
| ·AlN选择性吸收薄膜 | 第21-24页 |
| 2 实验装置与表征方法 | 第24-36页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第24-32页 |
| ·热丝化学气相沉积 | 第24-26页 |
| ·磁控溅射沉积薄膜技术简介 | 第26-32页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第32-34页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| ·膜厚测量仪 | 第33页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第33-34页 |
| ·紫外分光光度计 | 第34页 |
| ·本文的研究目的及内容 | 第34-36页 |
| ·柔性衬底上制备非晶硅薄膜的研究意义及内容 | 第34页 |
| ·不同反射层的AlN薄膜的研究意义及内容 | 第34-36页 |
| 3 非晶硅薄膜的制备与分析 | 第36-51页 |
| ·实验设计 | 第36-40页 |
| ·柔性衬底的选择 | 第36-39页 |
| ·灯丝的选择和设计 | 第39-40页 |
| ·非晶硅薄膜制备 | 第40-41页 |
| ·非晶硅薄膜的制备流程 | 第40页 |
| ·工艺参数 | 第40-41页 |
| ·分析与讨论 | 第41-50页 |
| ·硅烷浓度对薄膜的影响 | 第41-45页 |
| ·衬底温度对薄膜的影响 | 第45-49页 |
| ·工作气压对薄膜的影响 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 4 铝(钨)-氮化铝薄膜的制备与分析 | 第51-67页 |
| ·Al和W靶材的伏安特性 | 第51-52页 |
| ·AlN薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·单层AlN的制备 | 第52页 |
| ·不同反射层上渐变型AlN的制备 | 第52-53页 |
| ·AlN薄膜的表征 | 第53页 |
| ·AlN的XRD分析与讨论 | 第53-61页 |
| ·XRD分析 | 第53-56页 |
| ·各参数对Al-单层AlN膜系的微观结构的影响 | 第56-59页 |
| ·逐层溅射时间对AlN渐变薄膜的影响 | 第59-60页 |
| ·W反射层上单、多层AlN薄膜的微观结构比较 | 第60页 |
| ·不同反射层上渐变型AlN的XRD比较 | 第60-61页 |
| ·光谱分析 | 第61-66页 |
| ·W反射层对单层AlN薄膜的吸收率影响 | 第61-63页 |
| ·反射层对单层AlN的吸收率影响 | 第63-64页 |
| ·单、多层AlN薄膜的光谱分析 | 第64-65页 |
| ·Al/W反射层上沉积渐变型多层AlN薄膜 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
