摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 研究背景 | 第10-11页 |
1.2 分子模拟的历史 | 第11-14页 |
1.3 MD模拟在塑性变形中的应用 | 第14页 |
1.4 MD模拟在裂纹研究中的应用 | 第14-16页 |
1.5 MD模拟在多晶体中的应用 | 第16页 |
1.6 MD模拟在含缺陷晶体中的应用 | 第16-17页 |
1.7 本文研究的内容 | 第17-19页 |
第2章 MD模拟方法简介 | 第19-33页 |
2.1 积分运动方程 | 第19-21页 |
2.2 分子动力学的算法 | 第21-28页 |
2.2.1 有限积分算法 | 第21-23页 |
2.2.2 系综简介 | 第23-24页 |
2.2.3 平衡系综的温度控制 | 第24-25页 |
2.2.4 平衡系综的压强控制 | 第25-26页 |
2.2.5 边界条件 | 第26-28页 |
2.3 模拟原子的相互作用势 | 第28-31页 |
2.3.1 Lennard-Jones(L-J)势 | 第28-29页 |
2.3.2 Morse势 | 第29页 |
2.3.3 嵌入原子势(EAM) | 第29-30页 |
2.3.4 Finnis和Sinclair势 | 第30页 |
2.3.5 修正型嵌入原子法(MEAM) | 第30-31页 |
2.4 分子动力学模拟软件 | 第31-32页 |
2.4.1 LAMMPS简介 | 第31-32页 |
2.4.2 可视化软件OVITO简介 | 第32页 |
2.5 本章小结 | 第32-33页 |
第3章 单轴拉伸变形的分子动力学模拟 | 第33-39页 |
3.1 拉伸模型的建立 | 第33-36页 |
3.2 拉伸模拟结果 | 第36-38页 |
3.2.1 拉伸变形的结构变化 | 第36-37页 |
3.2.2 拉伸变形的力学分析 | 第37-38页 |
3.3 本章小结 | 第38-39页 |
第4章 理想多晶体疲劳变形的分子动力学模拟 | 第39-56页 |
4.1 模型的建立 | 第39-40页 |
4.2 模拟的结果与分析 | 第40-55页 |
4.2.1 平均晶粒尺寸为6.6nm多晶体的疲劳变形 | 第40-45页 |
4.2.2 平均晶粒尺寸为4.9nm的多晶体的疲劳变形 | 第45-49页 |
4.2.3 平均晶粒尺寸为4nm的多晶体疲劳变形 | 第49-53页 |
4.2.4 不同晶粒尺寸结果的比较 | 第53-55页 |
4.3 本章小结 | 第55-56页 |
第5章 含缺陷晶体疲劳变形的分子动力学模拟 | 第56-69页 |
5.1 含点缺陷多晶体的疲劳分子动力学模拟 | 第56-61页 |
5.1.1 含点缺陷多晶模型的建立 | 第56-57页 |
5.1.2 模拟的结果与分析 | 第57-61页 |
5.2 含面缺陷多晶体的疲劳分子动力学模拟 | 第61-66页 |
5.2.1 含面缺陷模型的建立 | 第61-63页 |
5.2.2 模拟的结果与分析 | 第63-66页 |
5.3 比较两种类型的缺陷对循环特性的影响 | 第66-68页 |
5.4 本章小结 | 第68-69页 |
结论 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-77页 |
致谢 | 第77页 |