集成电路布图设计的侵权判断标准研究

摘要	第2-4页
Abstract	第4-5页
导言	第8-14页
第一章 确定集成电路布图设计保护范围的依据	第14-25页
第一节 布图设计保护范围之依据的选择	第14-15页
第二节 判断布图设计保护范围依据的司法实践	第15-20页
一、以图样作为优先依据的实践	第16-19页
二、以样品作为优先依据的实践	第19-20页
第三节 对布图设计保护范围依据选择的分析	第20-25页
第二章 布图设计独创性的判断	第25-32页
第一节 独创性标准的立法现状	第25-27页
一、专有权人布图设计的独创性	第25-26页
二、反向工程布图设计的独创性	第26-27页
第二节 专有权人布图设计的独创性标准	第27-28页
第三节 反向工程中的独创性标准	第28-32页
一、书面痕迹标准	第29页
二、实质性相同标准	第29-30页
三、功能性优化标准	第30-31页
四、功能附加标准	第31-32页
第三章 布图设计实质性相似的判断	第32-37页
第一节 布图设计侵权判断中的实质性相似判断	第32-33页
第二节 实质性相似判断的司法实践	第33-35页
一、实质性相似的判断不以相似百分比为依据	第33-35页
二、实质性相似标准的高低依赖于创新空间的大小	第35页
第三节 实质性相似判断标准构设的建议	第35-37页
第四章 对我国法律修改的建议	第37-39页
第一节 集成电路布图设计保护范围的依据	第37-38页
第二节 独创性的判断标准	第38页
第三节 实质性相似的判断	第38-39页
结语	第39-40页
参考文献	第40-43页
在读期间发表的学术论文与研究成果	第43-44页
后记	第44-46页