立方AlN薄膜的激光分子束外延生长及其光学性能研究
摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 前言 | 第10-11页 |
1.2 立方AlN薄膜的结构及特性 | 第11-12页 |
1.3 立方AlN薄膜的研究现状 | 第12-17页 |
1.3.1 AlN薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
1.3.2 不同衬底上立方AlN薄膜的研究 | 第14-16页 |
1.3.3 立方AlN薄膜的性能研究 | 第16-17页 |
1.3.4 立方AlN薄膜研究的不足 | 第17页 |
1.4 本论文的选题依据和研究内容 | 第17-20页 |
1.4.1 选题的研究意义与目的 | 第17-18页 |
1.4.2 研究内容 | 第18-20页 |
第二章 实验材料与方法 | 第20-25页 |
2.1 实验材料及处理方法 | 第20页 |
2.2 立方AlN薄膜的制备工艺 | 第20-23页 |
2.2.1 LMBE设备 | 第20-22页 |
2.2.2 立方AlN薄膜的制备 | 第22-23页 |
2.3 AlN薄膜的表征 | 第23-25页 |
2.3.1 立方AlN薄膜的结构和表面形貌表征 | 第23-24页 |
2.3.2 立方A1N薄膜的横截面形貌及厚度测量 | 第24页 |
2.3.3 立方AlN薄膜横截面的透射电镜分析 | 第24页 |
2.3.4 立方AlN薄膜的光学性能测试 | 第24-25页 |
第三章 立方AlN薄膜的外延生长 | 第25-36页 |
3.1 立方AlN薄膜的晶体结构 | 第25-31页 |
3.1.1 靶材与衬底的晶体结构 | 第25-26页 |
3.1.2 薄膜的晶体结构 | 第26-31页 |
3.2 立方AlN薄膜的表面形貌 | 第31-35页 |
3.2.1 薄膜的生长模式 | 第31-32页 |
3.2.2 立方AlN薄膜的表面形貌 | 第32-35页 |
3.3 本章小结 | 第35-36页 |
第四章 立方AlN/MgO的界面结构研究 | 第36-42页 |
4.1 立方AlN/MgO界面的SEM分析 | 第36-37页 |
4.2 立方AlN/MgO界面的TEM分析 | 第37-41页 |
4.3 本章小结 | 第41-42页 |
第五章 立方AlN薄膜的光学性能研究 | 第42-53页 |
5.1 半导体的带隙特征 | 第42-43页 |
5.2 立方AlN薄膜的透射光谱分析 | 第43-44页 |
5.3 工艺参数对立方AlN薄膜光学性能的影响 | 第44-49页 |
5.4 立方AlN薄膜的能带结构模拟 | 第49-52页 |
5.5 本章小结 | 第52-53页 |
第六章 结论与展望 | 第53-55页 |
6.1 结论 | 第53-54页 |
6.2 展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第63页 |