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立方AlN薄膜的激光分子束外延生长及其光学性能研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-20页
    1.1 前言第10-11页
    1.2 立方AlN薄膜的结构及特性第11-12页
    1.3 立方AlN薄膜的研究现状第12-17页
        1.3.1 AlN薄膜的制备方法第12-14页
        1.3.2 不同衬底上立方AlN薄膜的研究第14-16页
        1.3.3 立方AlN薄膜的性能研究第16-17页
        1.3.4 立方AlN薄膜研究的不足第17页
    1.4 本论文的选题依据和研究内容第17-20页
        1.4.1 选题的研究意义与目的第17-18页
        1.4.2 研究内容第18-20页
第二章 实验材料与方法第20-25页
    2.1 实验材料及处理方法第20页
    2.2 立方AlN薄膜的制备工艺第20-23页
        2.2.1 LMBE设备第20-22页
        2.2.2 立方AlN薄膜的制备第22-23页
    2.3 AlN薄膜的表征第23-25页
        2.3.1 立方AlN薄膜的结构和表面形貌表征第23-24页
        2.3.2 立方A1N薄膜的横截面形貌及厚度测量第24页
        2.3.3 立方AlN薄膜横截面的透射电镜分析第24页
        2.3.4 立方AlN薄膜的光学性能测试第24-25页
第三章 立方AlN薄膜的外延生长第25-36页
    3.1 立方AlN薄膜的晶体结构第25-31页
        3.1.1 靶材与衬底的晶体结构第25-26页
        3.1.2 薄膜的晶体结构第26-31页
    3.2 立方AlN薄膜的表面形貌第31-35页
        3.2.1 薄膜的生长模式第31-32页
        3.2.2 立方AlN薄膜的表面形貌第32-35页
    3.3 本章小结第35-36页
第四章 立方AlN/MgO的界面结构研究第36-42页
    4.1 立方AlN/MgO界面的SEM分析第36-37页
    4.2 立方AlN/MgO界面的TEM分析第37-41页
    4.3 本章小结第41-42页
第五章 立方AlN薄膜的光学性能研究第42-53页
    5.1 半导体的带隙特征第42-43页
    5.2 立方AlN薄膜的透射光谱分析第43-44页
    5.3 工艺参数对立方AlN薄膜光学性能的影响第44-49页
    5.4 立方AlN薄膜的能带结构模拟第49-52页
    5.5 本章小结第52-53页
第六章 结论与展望第53-55页
    6.1 结论第53-54页
    6.2 展望第54-55页
参考文献第55-62页
致谢第62-63页
攻读硕士期间发表的论文第63页

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