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几种Ⅱ-Ⅳ-Ⅴ2型黄铜矿半导体材料的第一性原理研究

致谢第4-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-7页
变量注释表第15-16页
1 绪论第16-24页
    1.1 概述第16-17页
    1.2 理论研究意义第17-19页
    1.3 国内外研究现状第19-21页
    1.4 高压物理发展第21-22页
    1.5 课题研究内容与目标第22-24页
2 基本理论与计算方法第24-32页
    2.1 第一性原理方法介绍第24页
    2.2 密度泛函理论(DFT)第24-28页
    2.3 相变物理机制第28-29页
    2.4 计算及绘图软件第29页
    2.5 DFT计算基本要素第29-32页
3 Be Si V_2与Mg Si V_2 (V=P, As, Sb)的第一性原理研究第32-44页
    3.1 引言第32-33页
    3.2 计算方法与细节第33页
    3.3 结构性质第33-35页
    3.4 弹性性质第35-38页
    3.5 晶格动力学特性第38-43页
    3.6 小结第43-44页
4 高压下Cd Sn V_2 (V=P, As, Sb)的第一性原理研究第44-68页
    4.1 引言第44页
    4.2 计算方法与细节第44-45页
    4.3 结构相变第45-48页
    4.4 电子结构第48-52页
    4.5 光学性质第52-57页
    4.6 弹性性质第57-59页
    4.7 晶格动力学特性第59-64页
    4.8 热力学性质第64-66页
    4.9 小结第66-68页
5 结论第68-70页
参考文献第70-78页
作者简历第78-82页
学位论文数据集第82页

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