| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 概述 | 第9-10页 |
| 1.2 分子印迹技术 | 第10-15页 |
| 1.2.1 分子印迹技术的发展概况及研究现状 | 第10页 |
| 1.2.2 分子印迹技术的基本原理 | 第10页 |
| 1.2.3 分子印迹聚合物构成体系介绍 | 第10-14页 |
| 1.2.4 分子印迹聚合物的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.3 基于硅胶表面的分子印迹技术 | 第15-18页 |
| 1.3.1 硅胶表面分子印迹聚合物的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.3.2 硅胶表面分子印迹聚合物的应用 | 第17-18页 |
| 1.4 可逆加成—断裂链转移自由基聚合 | 第18-20页 |
| 1.4.1 可逆加成—断裂链转移自由基聚合发展概况及研究现状 | 第18-19页 |
| 1.4.2 可逆加成—断裂链转移自由基聚合的原理 | 第19-20页 |
| 1.4.3 可逆加成—断裂链转移自由基聚合的应用 | 第20页 |
| 1.5 本文主要研究内容和意义 | 第20-23页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第23-28页 |
| 2.1 实验仪器与试剂 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验所用仪器与设备 | 第23-24页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第24页 |
| 2.2 实验部分 | 第24-26页 |
| 2.2.1 以溶胶凝胶法制备硅胶表面印迹聚合物 | 第24-25页 |
| 2.2.2 以RAFT法制备硅胶表面印迹聚合物 | 第25-26页 |
| 2.3 印迹聚合物的结构表征 | 第26页 |
| 2.3.1 外光谱测试(FT-IR) | 第26页 |
| 2.3.2 热重-差热分析(TG-DTA) | 第26页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第26页 |
| 2.4 印迹聚合物吸附性能测试 | 第26-28页 |
| 2.4.1 吸附动力学 | 第26-27页 |
| 2.4.2 等温吸附性能 | 第27页 |
| 2.4.3 吸附选择性 | 第27页 |
| 2.4.4 重复利用率 | 第27-28页 |
| 第3章 溶胶凝胶法制备硅胶表面印迹聚合物 | 第28-39页 |
| 3.1 硅胶表面印迹聚合物的制备条件优化 | 第28-31页 |
| 3.1.1 功能单体的筛选 | 第28-29页 |
| 3.1.2 交联剂和功能单体的比例 | 第29页 |
| 3.1.3 洗脱液比例的优化 | 第29-31页 |
| 3.2 印迹聚合物的结构表征 | 第31-34页 |
| 3.2.1 红外光谱测试(FT-IR) | 第31-32页 |
| 3.2.2 热重-差热分析(TG-DTA) | 第32-33页 |
| 3.2.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第33-34页 |
| 3.3 印迹聚合物吸附性能 | 第34-37页 |
| 3.3.1 吸附动力学 | 第34-35页 |
| 3.3.2 吸附等温线 | 第35-36页 |
| 3.3.3 吸附选择性 | 第36-37页 |
| 3.3.4 重复利用率 | 第37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 RAFT法制备硅胶表面印迹聚合物 | 第39-48页 |
| 4.1 印迹聚合物的结构表征 | 第39-42页 |
| 4.1.1 傅立叶红外光谱分析 | 第39-40页 |
| 4.1.2 热重分析 | 第40-41页 |
| 4.1.3 扫描电子显微镜 | 第41-42页 |
| 4.2 印迹聚合物的吸附性能 | 第42-45页 |
| 4.2.1 吸附动力学 | 第42-43页 |
| 4.2.2 吸附等温线 | 第43-44页 |
| 4.2.3 吸附选择性 | 第44-45页 |
| 4.2.4 重复利用率 | 第45页 |
| 4.3 溶胶-凝胶法与RAFT法对比 | 第45-47页 |
| 4.3.1 实验方法 | 第45-46页 |
| 4.3.2 印迹聚合物表面形态 | 第46页 |
| 4.3.3 吸附动力学及选择吸附性 | 第46-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-56页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |