Ir(111)表面自旋—轨道耦合效应及其稳定性研究

中文摘要	第6-7页
ABSTRACT	第7页
第一章 绪论	第9-15页
1.1 自旋电子学	第9-11页
1.2 自旋-轨道耦合	第11-12页
1.3 金属表面	第12-14页
1.4 Ir(111)表面	第14页
1.5 小结	第14-15页
第二章 理论研究方法	第15-20页
2.1 密度泛函理论	第15-16页
2.2 局域密度近似	第16-18页
2.3 能带论	第18-19页
2.4 VASP软件简介	第19页
2.5 小结	第19-20页
第三章 Ir(111)表面自旋-轨道耦合效应	第20-26页
3.1 简介	第20-21页
3.2 密度泛函计算模型及参数设定	第21-22页
3.3 Ir(111)表面能带结构	第22-24页
3.4 Ir(111)表面能带态成分分析	第24-25页
3.5 小结	第25-26页
第四章 Ir(111)表面稳定性	第26-32页
4.1 简介	第26页
4.2 石墨烯简介	第26-28页
4.3 Ir(111)表面稳定性分析	第28-31页
4.4 小结	第31-32页
第五章 全文总结	第32-33页
参考文献	第33-36页
在读期间公开发表的论文和承担科研项目及取得成果	第36-37页
致谢	第37页