激光沉积法制备SrTiO3铁电薄膜及其性能分析
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·铁电材料概述和研究进展 | 第9-12页 |
| ·铁电薄膜常用的制备方法 | 第12-15页 |
| ·金属有机物化学气相沉积法(MOCVD) | 第12页 |
| ·溶胶一凝胶(Sol-Gel) | 第12-13页 |
| ·磁控溅射法 | 第13-14页 |
| ·脉冲激光沉积法（PLD） | 第14-15页 |
| ·钛酸锶和钛酸钡薄膜的性质及研究进展 | 第15-18页 |
| ·钛酸锶薄膜的性质及研究进展 | 第15-17页 |
| ·钛酸钡薄膜的性质及研究进展 | 第17-18页 |
| ·本论文的选题及研究目标 | 第18-19页 |
| 第2章 实验原理与方法 | 第19-27页 |
| ·钛酸锶靶材的制备及表征 | 第19页 |
| ·钛酸锶薄膜的制备 | 第19-22页 |
| ·实验原理 | 第19-20页 |
| ·实验装置 | 第20-21页 |
| ·实验过程 | 第21-22页 |
| ·钛酸锶薄膜的表征 | 第22-27页 |
| ·X射线衍射分析（XRD） | 第22-24页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第24-25页 |
| ·钛酸锶薄膜的厚度测量 | 第25页 |
| ·透射谱分析 | 第25-26页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第26-27页 |
| 第3章 钛酸锶薄膜性质与PLD生长工艺参数的关系 | 第27-43页 |
| ·钛酸锶靶材 | 第27页 |
| ·基片温度对钛酸锶薄膜性质的影响 | 第27-31页 |
| ·X射线衍射测试（XRD） | 第28页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第28-29页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第29-30页 |
| ·透射谱分析 | 第30-31页 |
| ·氧分压对钛酸锶薄膜性质的影响 | 第31-35页 |
| ·X射线衍射测试（XRD） | 第32页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第32-33页 |
| ·透射谱分析 | 第33-35页 |
| ·激光功率对钛酸锶薄膜性质的影响 | 第35-38页 |
| ·X射线衍射测试（XRD） | 第35页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第35-36页 |
| ·透射谱分析 | 第36-38页 |
| ·衬底对钛酸锶薄膜性质的影响 | 第38-42页 |
| ·X射线衍射测试（XRD） | 第38-39页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第39-40页 |
| ·透射谱分析 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 PLD法制备钛酸钡薄膜及其特性研究 | 第43-49页 |
| ·实验过程 | 第43页 |
| ·钛酸钡靶材 | 第43-44页 |
| ·氧分压对BTO/MgO薄膜及其特性影响的研究 | 第44-47页 |
| ·X射线衍射测试（XRD） | 第44页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第44-45页 |
| ·透射谱分析 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
