检测CO2气体用窄带滤光片设计与制备
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-17页 |
1.1 光学薄膜分类、应用 | 第10-11页 |
1.2 窄带滤光片发展过程及研究现状 | 第11-13页 |
1.2.1 窄带滤光片的发展过程 | 第11-12页 |
1.2.2 检测CO_2用窄带滤光片的研究现状 | 第12-13页 |
1.3 研究目的和意义 | 第13-15页 |
1.4 论文研究的主要内容 | 第15-17页 |
第二章 光学薄膜特性计算及设计理论 | 第17-22页 |
2.1 光学薄膜的特性计算 | 第17-20页 |
2.2 窄带滤过片设计理论 | 第20-21页 |
2.3 高反膜系设计理论 | 第21-22页 |
第三章 窄带滤光片的膜系设计及优化 | 第22-43页 |
3.1 基片和镀膜材料的选取 | 第22-25页 |
3.1.1 基片的选取 | 第22-24页 |
3.1.2 镀膜材料的选取 | 第24-25页 |
3.2 窄带滤光片设计中敏感度的影响因素研究 | 第25-35页 |
3.2.1 窄带滤光片的基本结构类型 | 第25-26页 |
3.2.2 影响窄带滤光片敏感度参数 | 第26页 |
3.2.3 窄带滤光片敏感度模拟实验分析 | 第26-32页 |
3.2.4 模拟实验结果验证 | 第32-35页 |
3.3 单通道窄带滤光片膜系设计及优化 | 第35-39页 |
3.3.1 基片A面设计 | 第36-37页 |
3.3.2 基片B面设计 | 第37-39页 |
3.3.3 AB面叠加 | 第39页 |
3.4 双通道窄带滤光片膜系设计及优化 | 第39-42页 |
3.4.1 基片A面设计 | 第40页 |
3.4.2 基片B面设计 | 第40-41页 |
3.4.3 AB面设计 | 第41-42页 |
3.5 本章小结 | 第42-43页 |
第四章 单通道窄带滤光片的制备 | 第43-57页 |
4.1 真空镀膜原理 | 第43-44页 |
4.2 实验设备及组成 | 第44-45页 |
4.3 制备中的工艺参数 | 第45-51页 |
4.3.1 沉积温度 | 第46-47页 |
4.3.2 沉积速率 | 第47-48页 |
4.3.3 离子辅助沉积 | 第48页 |
4.3.4 热处理 | 第48-50页 |
4.3.5 蒸镀真空度 | 第50-51页 |
4.4 工艺流程 | 第51-52页 |
4.5 镀制结果 | 第52-56页 |
4.6 本章小结 | 第56-57页 |
第五章 窄带滤光片性能测试及误差分析 | 第57-61页 |
5.1 单通道窄带滤光片性能测试及误差分析 | 第57-59页 |
5.2 双通道窄带滤光片膜系误差分析 | 第59-60页 |
5.3 本章小结 | 第60-61页 |
结论 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
在读学位期间发表的论文 | 第69页 |