| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 文献综述与选题背景 | 第11-31页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 碳化硅的结构、性能及应用 | 第12-15页 |
| 1.2.1 碳化硅的结构与性能 | 第12-13页 |
| 1.2.2 碳化硅的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 光催化及光催化有机合成的发展现状及研究进展 | 第15-28页 |
| 1.3.1 光催化的介绍 | 第15页 |
| 1.3.2 半导体光催化剂 | 第15-19页 |
| 1.3.3 金属光催化剂 | 第19-23页 |
| 1.3.4 金属-半导体复合物光催化剂 | 第23-24页 |
| 1.3.5 光催化应用实例 | 第24-28页 |
| 1.4 呋喃加氢合成现状 | 第28-29页 |
| 1.5 选题背景与研究内容 | 第29-31页 |
| 1.5.1 选题背景 | 第29-30页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 实验部分 | 第31-37页 |
| 2.1 实验的主要试剂与材料 | 第31-32页 |
| 2.2 实验的主要仪器设备 | 第32-33页 |
| 2.3 催化剂的制备 | 第33页 |
| 2.3.1 高比表面积 SiC 的制备 | 第33页 |
| 2.3.2 Pd/SiC 催化剂的制备 | 第33页 |
| 2.4 催化剂表征 | 第33-35页 |
| 2.4.1 催化剂物相表征（XRD） | 第33页 |
| 2.4.2 催化剂形貌及结构（TEM） | 第33-34页 |
| 2.4.3 X 射线光电子能谱（XPS） | 第34页 |
| 2.4.4 光致发光光谱（PL） | 第34页 |
| 2.4.5 紫外可见吸收光谱（UV-Vis） | 第34页 |
| 2.4.6 气相色谱仪（GC） | 第34页 |
| 2.4.7 气相色质联用谱仪（GC-MS） | 第34-35页 |
| 2.5 反应实验装置及光催化方法 | 第35-37页 |
| 2.5.1 光催化高压反应釜 | 第35页 |
| 2.5.2 可见光源及滤光片 | 第35页 |
| 2.5.3 光催化方法 | 第35-37页 |
| 第三章 Pd/SiC 催化剂的制备、表征及光催化呋喃加氢反应条件的优化 | 第37-49页 |
| 3.1 引言 | 第37-38页 |
| 3.2 实验部分 | 第38页 |
| 3.2.1 Pd/SiC、Pd/SiO_2和 Pd/TiO_2催化剂的制备 | 第38页 |
| 3.2.2 光催化反应 | 第38页 |
| 3.3 催化剂的表征及结果测试 | 第38-43页 |
| 3.3.1 XRD 分析 | 第39-40页 |
| 3.3.2 TEM 分析 | 第40页 |
| 3.3.3 紫外可见吸收光谱及光致发光光谱 | 第40-43页 |
| 3.3.4 XPS 分析 | 第43页 |
| 3.4 Pd/SiC 光催化呋喃加氢反应条件的优化 | 第43-46页 |
| 3.4.1 Pd/SiC 催化剂的负载量 | 第43-44页 |
| 3.4.2 溶剂的选择 | 第44-45页 |
| 3.4.3 H_2压力 | 第45-46页 |
| 3.4.4 催化剂的用量及反应时间 | 第46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-49页 |
| 第四章 光催化呋喃加氢的性能及机理研究 | 第49-59页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 光照强度对催化活性的影响 | 第49-50页 |
| 4.3 波长对催化活性的影响 | 第50-52页 |
| 4.4 对含不同取代基的呋喃化合物的光催化性能测试 | 第52-54页 |
| 4.5 光催化稳定性测试 | 第54-55页 |
| 4.6 反应机理分析与讨论 | 第55-57页 |
| 4.7 本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 总论与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 结论 | 第59-60页 |
| 5.2 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读硕士期间发表论文及研究成果 | 第72页 |
