摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第一章 前言 | 第12-32页 |
1.1 研究背景 | 第12-15页 |
1.1.1 太阳能的开发 | 第12-14页 |
1.1.2 半导体光电材料的应用 | 第14-15页 |
1.2 半导体材料表/界面态的研究现状 | 第15-27页 |
1.2.1 光催化体系中材料表/界面态的研究 | 第16-21页 |
1.2.2 光电催(转)化体系中材料的表/界面态的研究 | 第21-27页 |
1.3 光物理过程研究的技术手段 | 第27-30页 |
1.3.1 荧光技术 | 第27-28页 |
1.3.2 表面光伏技术 | 第28-30页 |
1.3.3 其它表征手段的应用 | 第30页 |
1.4 本论文的立题思想 | 第30-32页 |
第二章 表面光电压的拓展技术-场扫描 | 第32-41页 |
2.1 测量系统及实施方法的简介 | 第32-34页 |
2.2 外加电场的作用 | 第34-37页 |
2.2.1 外加电场对带弯的影响 | 第34-35页 |
2.2.2 外加电场对空间电荷区载流子分布的影响 | 第35-36页 |
2.2.3 场扫描技术对研究表/界面态的意义 | 第36-37页 |
2.3 场扫描技术的应用前景 | 第37-40页 |
2.3.1 场扫描技术在分析表面态上的应用 | 第37-38页 |
2.3.2 场扫描技术在分析界面态上的应用 | 第38-40页 |
2.4 本章小结 | 第40-41页 |
第三章 Au/TiO_2和 Pt/TiO_2的界面态光电性质的研究 | 第41-53页 |
3.1 引言 | 第41-42页 |
3.2 实验试剂与仪器 | 第42-43页 |
3.3 负载 Au、Pt 的 TiO_2界面态的研究 | 第43-52页 |
3.3.1 实验部分 | 第43-44页 |
3.3.2 样品表征 | 第44-45页 |
3.3.3 实验结果与讨论 | 第45-52页 |
3.4 本章小结 | 第52-53页 |
第四章 Ti~(3+)掺杂的 TiO_2的表面态光电性质的研究 | 第53-67页 |
4.1 引言 | 第53-54页 |
4.2 实验试剂与仪器 | 第54页 |
4.3 表面 Ti~(3+)掺杂 TiO_2的表面态的研究 | 第54-62页 |
4.3.1 实验部分 | 第54-55页 |
4.3.2 样品表征 | 第55页 |
4.3.3 实验结果与讨论 | 第55-62页 |
4.4 Ti~(3+)掺杂不同位点对 TiO_2光电性质的影响 | 第62-66页 |
4.4.1 实验部分 | 第63页 |
4.4.2 不同位点 Ti~(3+)掺杂的 TiO_2的光催化活性测试 | 第63-64页 |
4.4.3 不同位点 Ti~(3+)掺杂的 TiO_2光电性质的研究 | 第64-66页 |
4.5 本章小结 | 第66-67页 |
第五章 总结与展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-78页 |
作者简历 | 第78-79页 |
致谢 | 第79-80页 |