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基区变化对p-i-n型二极管性能的影响

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第8-18页
    1 概述第8-11页
        1.1 p-i-n型二极管的基本结构第8-9页
        1.2 p-i-n型二极管的应用第9-11页
            1.2.1 p-i-n二极管开关第9页
            1.2.2     p-i-n结太阳能电池第9-10页
            1.2.3 p-i-n光电二极管第10页
            1.2.4 大功率整流器第10页
            1.2.5 射频信号的衰减器和调制器第10页
            1.2.6 射频限幅器第10-11页
    2 p-i-n型二极管的反向恢复特性第11-12页
    3 国内外研究现状第12-15页
    4 课题研究的目的与意义第15-16页
    5 论文主要内容与结构安排第16-18页
第二章 In(Al)_xGa_((1-x))N材料BARITT二极管的电学特性第18-40页
    1 引言第18-19页
    2 BARITT二极管的数学模型和工作原理第19-24页
    3 In(Al)_xGa_((1-x))N材料BARITT二极管的电学特性第24-39页
        3.1 In(Al)_xGa_((1-x))N材料BARITT二极管电流-电压关系特性第24-26页
        3.2 In(Al)_xGa_((1-x))N材料BARITT二极管单位面积电导与电压的关系特性第26-28页
        3.3 In(Al)_xGa_((1-x))N材料BARITT二极管低场区与基区的分界点与电压关系特性第28-30页
        3.4 In(Al)_xGa_((1-x))N材料BARITT二极管负阻特性第30-32页
        3.5 不同组分的In(Al)_xGa_((1-x))N材料BARITT二极管电导电纳关系图第32-39页
    4 小结第39-40页
第三章 阴极结嵌入(p~+)nc-SiC埋层的(p~+)nc-Si/(n~-)c-Si/(n~+)nc-Si快恢复二极管第40-48页
    1 引言第40-41页
    2 实验过程第41-43页
    3 结果和讨论第43-47页
        3.1 制备薄膜的结构分析第43页
        3.2 静态电子特性第43-46页
        3.3 反向恢复行为第46-47页
    4 小结第47-48页
第四章 总结与展望第48-50页
    1 总结第48页
    2 展望第48-50页
参考文献第50-54页
致谢第54-56页
攻读硕士期间发表的学术论文第56页

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