大功率电子枪电子束形成系统的设计研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第11-12页 |
| 1.1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.1.2 研究的目的与意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国外研究与发展动态 | 第12-17页 |
| 1.2.1 国内研究与发展动态 | 第14-17页 |
| 第2章 大功率电子枪电子束的形成 | 第17-25页 |
| 2.1 电子枪 | 第18-19页 |
| 2.2 电子枪的工作过程 | 第19-23页 |
| 2.2.1 电子束的形成 | 第20-21页 |
| 2.2.2 电子束的传输 | 第21页 |
| 2.2.3 电子束的偏转和扫描 | 第21-22页 |
| 2.2.4 X-射线的产生与防护 | 第22-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-25页 |
| 第3章 电子束形成系统的设计 | 第25-33页 |
| 3.1 电子的发射 | 第25-29页 |
| 3.1.1 电子枪阴极 | 第25页 |
| 3.1.2 阴极设计 | 第25-29页 |
| 3.2 电子的加速 | 第29-30页 |
| 3.2.1 聚束极 | 第29-30页 |
| 3.2.2 阳极设计 | 第30页 |
| 3.3 电子束的形成 | 第30-32页 |
| 3.3.1 磁场位置和结构设计 | 第31-32页 |
| 3.3.2 熔炼温度调节 | 第32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 电子枪的模拟设计 | 第33-45页 |
| 4.1 模拟用软件介绍 | 第33-35页 |
| 4.2 CST模拟模型建立 | 第35-39页 |
| 4.2.1 模型材料 | 第35页 |
| 4.2.2 阴极和聚束极 | 第35-36页 |
| 4.2.3 阳极与一次聚焦骨架 | 第36-37页 |
| 4.2.4 聚焦线圈 | 第37-38页 |
| 4.2.5 模孔光阑 | 第38-39页 |
| 4.3 边界条件设置 | 第39页 |
| 4.4 添加各个激励条件 | 第39-40页 |
| 4.5 网格划分 | 第40-41页 |
| 4.6 模拟计算 | 第41-43页 |
| 4.7 本章小结 | 第43-45页 |
| 第5章 电子枪各参数对电子束性能的影响 | 第45-83页 |
| 5.1 加速电场参数对电子束形成的影响 | 第45-63页 |
| 5.1.1 改变电极排布 | 第45-46页 |
| 5.1.2 改变加速电压 | 第46-49页 |
| 5.1.3 改变块状阴极几何参数 | 第49-54页 |
| 5.1.4 改变聚束极几何参数 | 第54-61页 |
| 5.1.5 改变阳极孔径 | 第61-63页 |
| 5.2 一次聚焦系统的参数对电子束轨迹的影响 | 第63-76页 |
| 5.2.1 改变聚焦线圈位置 | 第63-66页 |
| 5.2.2 改变聚焦线圈内径 | 第66-70页 |
| 5.2.3 改变聚焦线圈宽度 | 第70-72页 |
| 5.2.4 铁心的影响 | 第72-74页 |
| 5.2.5 改变聚焦磁场轴向均匀性 | 第74-76页 |
| 5.3 结构优化 | 第76-81页 |
| 5.4 本章小结 | 第81-83页 |
| 第6章 结论与展望 | 第83-87页 |
| 6.1 结论 | 第83-84页 |
| 6.2 展望 | 第84-87页 |
| 参考文献 | 第87-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
