| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-26页 |
| 1.1 课题来源 | 第13页 |
| 1.2 课题研究的目的和意义 | 第13-14页 |
| 1.3 热电材料简介 | 第14-20页 |
| 1.3.1 热电材料的发展历史 | 第14-16页 |
| 1.3.2 基本的热电效应和原理 | 第16-18页 |
| 1.3.3 表征热电材料的性能参数 | 第18-20页 |
| 1.4 碲化锑（Sb_2Te_3）基热电材料的研究进展 | 第20-24页 |
| 1.4.1 Sb_2Te_3材料简介 | 第20-21页 |
| 1.4.2 Sb_2Te_3基热电材料的研究进展 | 第21-24页 |
| 1.5 论文的主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 薄膜的制备和表征手段 | 第26-34页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第26-29页 |
| 2.1.1 磁控溅射简介 | 第26-28页 |
| 2.1.2 制备薄膜的一般流程 | 第28-29页 |
| 2.2 薄膜的表征手段 | 第29-34页 |
| 2.2.1 X 射线结构分析（XRD） | 第29-30页 |
| 2.2.2 场发射扫描电镜（FESEM） | 第30页 |
| 2.2.3 电学性能 | 第30-31页 |
| 2.2.4 塞贝克系数 | 第31-34页 |
| 第三章 碲化锑薄膜的制备及其热电性能研究 | 第34-48页 |
| 3.1 溅射功率对碲化锑薄膜微结构和热电性能的影响 | 第34-43页 |
| 3.1.1 溅射功率对其结构和表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| 3.1.2 溅射功率对其热电性能的影响 | 第36-37页 |
| 3.1.3 退火对碲化锑薄膜微结构和热电性能的影响 | 第37-43页 |
| 3.2 厚度对碲化锑薄膜微结构和热电性能的影响 | 第43-46页 |
| 3.2.1 厚度对其结构和表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| 3.2.2 厚度对其热电性能的影响 | 第44-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 Bi-Sb-Te 薄膜的制备及其热电性能研究 | 第48-70页 |
| 4.1 溅射功率对 Bi-Sb-Te 薄膜微结构和热电性能的影响 | 第48-58页 |
| 4.1.1 溅射功率对其结构和表面形貌的影响 | 第48-50页 |
| 4.1.2 溅射功率对其热电性能的影响 | 第50-52页 |
| 4.1.3 退火对 Bi-Sb-Te 薄膜微结构和热电性能的影响 | 第52-58页 |
| 4.2 厚度对 Bi-Sb-Te 薄膜微结构和热电性能的影响 | 第58-61页 |
| 4.2.1 厚度对其结构和表面形貌的影响 | 第58-59页 |
| 4.2.2 厚度对其热电性能的影响 | 第59-61页 |
| 4.3 基片温度对 Bi-Sb-Te 薄膜微结构和热电性能的影响 | 第61-68页 |
| 4.3.1 基片温度对其结构和表面形貌的影响 | 第62-64页 |
| 4.3.2 基片温度对其热电性能的影响 | 第64-65页 |
| 4.3.3 退火对不同基片温度 Bi-Sb-Te 薄膜微结构和热电性能的影响 | 第65-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 总结与展望 | 第70-73页 |
| 5.1 总结 | 第70-72页 |
| 5.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第79-80页 |
| 作者在攻读硕士学位期间所作的项目 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
