TiAlN薄膜的合成、计算和性能研究
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 TiAlN 薄膜 | 第10-14页 |
| 1.1.1 TiAlN 的发展及应用 | 第10-12页 |
| 1.1.2 TiAlN 薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| 1.2 课题研究内容及意义 | 第14-15页 |
| 1.2.1 课题研究内容 | 第14页 |
| 1.2.2 课题研究意义 | 第14-15页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第15-22页 |
| 2.1 溅射技术 | 第15-18页 |
| 2.1.1 直流溅射 | 第15页 |
| 2.1.2 射频溅射 | 第15页 |
| 2.1.3 磁控溅射 | 第15-17页 |
| 2.1.4 反应溅射 | 第17-18页 |
| 2.2 TiAlN 薄膜的表征方法 | 第18-22页 |
| 2.2.1 X 射线衍射 | 第18-19页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜能谱仪 | 第19-20页 |
| 2.2.3 紫外-可见分光光度计 | 第20-21页 |
| 2.2.4 纳米压痕 | 第21-22页 |
| 第三章 TiAlN 薄膜的制备与表征 | 第22-37页 |
| 3.1 TiAlN 薄膜的制备 | 第22-24页 |
| 3.1.1 基体预处理 | 第22页 |
| 3.1.2 靶材设计 | 第22-23页 |
| 3.1.3 薄膜制备 | 第23-24页 |
| 3.2 薄膜的结构性能 | 第24-26页 |
| 3.2.1 AlN 薄膜的 XRD 图谱分析 | 第24页 |
| 3.2.2 TiAlN 薄膜的 XRD 图谱分析 | 第24-26页 |
| 3.3 TiAlN 薄膜的表面形貌 | 第26页 |
| 3.4 TiAlN 薄膜厚度及组分 | 第26-27页 |
| 3.5 TiAlN 薄膜的力学性能 | 第27-36页 |
| 3.5.1 TiAlN 薄膜的显微硬度 | 第27-34页 |
| 3.5.2 TiAlN 薄膜的摩擦系数 | 第34-36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 TiAlN 薄膜的模拟计算 | 第37-59页 |
| 4.1 模拟计算的理论基础 | 第37-44页 |
| 4.1.1 第一性原理简介 | 第37-38页 |
| 4.1.2 基于密度泛函的第一性原理 | 第38-42页 |
| 4.1.3 交换关联近似求解方法 | 第42-44页 |
| 4.2 计算所采用的方法 | 第44-48页 |
| 4.2.1 计算使用的软件 | 第44-46页 |
| 4.2.2 赝势平面波方法 | 第46-48页 |
| 4.2.3 自洽过程 | 第48页 |
| 4.3 AlN 的理论模型、结果与讨论 | 第48-52页 |
| 4.3.1 理论模型 | 第48-49页 |
| 4.3.2 计算方法 | 第49-50页 |
| 4.3.3 能带及态密度 | 第50-51页 |
| 4.3.4 光学性质 | 第51-52页 |
| 4.4 TiN 的理论模型、结果与讨论 | 第52-55页 |
| 4.4.1 理论模型 | 第52页 |
| 4.4.2 计算方法 | 第52-53页 |
| 4.4.3 能带及态密度 | 第53页 |
| 4.4.4 TiN 的弹性常数 | 第53-55页 |
| 4.5 TiAlN 的理论模型、结果与讨论 | 第55-58页 |
| 4.5.1 理论模型 | 第55-56页 |
| 4.5.2 计算方法 | 第56页 |
| 4.5.3 能带及态密度 | 第56-58页 |
| 4.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论与展望 | 第59-60页 |
| 附录 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 硕士期间公开发表的学术论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
