水处理沉淀工艺强化及水量变化适应性研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 课题背景 | 第10-11页 |
| 1.2 絮凝形态学研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.1 絮凝形态学 | 第11页 |
| 1.2.2 分形理论及在絮体研究中的应用 | 第11-12页 |
| 1.2.3 絮体粒度分布 | 第12页 |
| 1.3 沉淀理论及发展研究现状 | 第12-16页 |
| 1.3.1 理想沉淀池及浅池理论 | 第12-13页 |
| 1.3.2 沉淀池设计及改进 | 第13-14页 |
| 1.3.3 絮体在沉淀池的沉降规律 | 第14-16页 |
| 1.3.4 基于接触絮凝的强化沉淀技术 | 第16页 |
| 1.4 低温低浊水处理技术 | 第16-17页 |
| 1.5 研究内容及意义 | 第17-19页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第17页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第17-18页 |
| 1.5.3 课题来源 | 第18-19页 |
| 第2章 试验设备及研究方法 | 第19-30页 |
| 2.1 实验方法 | 第19-20页 |
| 2.2 试验设备与材料 | 第20-24页 |
| 2.2.1 反应装置及主要设备 | 第20-23页 |
| 2.2.2 实验材料及指标 | 第23-24页 |
| 2.3 检测手段 | 第24-26页 |
| 2.3.1 在线浊度检测技术 | 第24页 |
| 2.3.2 颗粒计数检测技术 | 第24-25页 |
| 2.3.3 水中颗粒形态原位识别技术 | 第25-26页 |
| 2.4 数据分析 | 第26-27页 |
| 2.4.1 几何分形维数 | 第26页 |
| 2.4.2 粒度分形维数 | 第26-27页 |
| 2.5 实验条件优化 | 第27-30页 |
| 2.5.1 最佳投药量 | 第27-28页 |
| 2.5.2 最佳搅拌速度梯度 | 第28-30页 |
| 第3章 常规斜板沉淀池各区水质特征研究 | 第30-47页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 常浊范围各区水质特征 | 第30-37页 |
| 3.2.1 进水水质特征 | 第30-32页 |
| 3.2.2 配水区水质特征 | 第32-34页 |
| 3.2.3 斜板区水质特征 | 第34-36页 |
| 3.2.4 沉后水水质特征 | 第36-37页 |
| 3.3 低浊范围各区水质特征 | 第37-44页 |
| 3.3.1 进水水质特征 | 第37-39页 |
| 3.3.2 配水区水质特征 | 第39-41页 |
| 3.3.3 斜板区水质特征 | 第41-42页 |
| 3.3.4 沉后水水质特征 | 第42-44页 |
| 3.4 沉后水颗粒形态特征 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 水量变化对常规斜板沉淀池影响研究 | 第47-59页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 常浊水量变化时对斜板沉淀池影响 | 第47-53页 |
| 4.2.1 沉后水水质 | 第47-48页 |
| 4.2.2 各区颗粒分布特征 | 第48-51页 |
| 4.2.3 水量冲击对沉淀池稳定性影响 | 第51-53页 |
| 4.3 低浊水量变化对斜板沉淀池水质影响 | 第53-58页 |
| 4.3.1 沉后水水质 | 第53-54页 |
| 4.3.2 各区颗粒分布特征 | 第54-57页 |
| 4.3.3 水量冲击对沉淀池稳定性影响 | 第57-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 折板强化沉淀池运行效能研究 | 第59-77页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 折板强化沉淀原理 | 第59-60页 |
| 5.3 常浊水量变化对折板沉淀池影响 | 第60-65页 |
| 5.3.1 沉后水水质 | 第60-61页 |
| 5.3.2 各区颗粒分布特征 | 第61-64页 |
| 5.3.3 水量冲击对沉淀池稳定性影响 | 第64-65页 |
| 5.4 低浊水量变化对折板沉淀池影响 | 第65-70页 |
| 5.4.1 沉后水水质 | 第65-66页 |
| 5.4.2 各区颗粒分布特征 | 第66-69页 |
| 5.4.3 水量冲击对沉淀池稳定性影响 | 第69-70页 |
| 5.5 两种池型对比研究 | 第70-75页 |
| 5.5.1 沉后水水质对比 | 第70-72页 |
| 5.5.2 各区颗粒分布对比 | 第72-75页 |
| 5.6 本章小结 | 第75-77页 |
| 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
