面向纳米材料操控的钨针制备系统与工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第8-12页 |
| 1.2 钨探针制备研究现状 | 第12-15页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第15-17页 |
| 2 钨针制备系统方案设计 | 第17-25页 |
| 2.1 动态电化学腐蚀法原理 | 第17-20页 |
| 2.2 总体方案设计 | 第20-24页 |
| 2.3 本章小结 | 第24-25页 |
| 3 探针制备装置的建构 | 第25-40页 |
| 3.1 机械位移装置 | 第25-29页 |
| 3.2 探针制备装置控制系统 | 第29-37页 |
| 3.3 终端用户程序 | 第37-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 4 大长径比钨探针制备工艺优化 | 第40-50页 |
| 4.1 阈值电压的确定 | 第40-42页 |
| 4.2 KOH溶液浓度的确定 | 第42-44页 |
| 4.3 腐蚀电压的确定 | 第44页 |
| 4.4 浸没深度与提升速度的确定 | 第44-47页 |
| 4.5 综合分析 | 第47-48页 |
| 4.6 大长径比钨探针的应用 | 第48-49页 |
| 4.7 本章小结 | 第49-50页 |
| 5 总结与展望 | 第50-52页 |
| 5.1 总结 | 第50页 |
| 5.2 展望 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 附录1：攻读硕士学位期间的主要成果 | 第57页 |
