极膜一体化装置在钴电积过程中氯气消除的试验研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 电积钴 | 第12-13页 |
| 1.1.1 钴的性质 | 第12-13页 |
| 1.1.2 钴的用途 | 第13页 |
| 1.2 钴提取现状 | 第13-14页 |
| 1.3 传统钴电积过程中存在的问题及解决途径 | 第14-16页 |
| 1.3.1 传统钴电积过程中存在的问题 | 第14-15页 |
| 1.3.2 解决途径 | 第15-16页 |
| 1.4 离子膜电解技术在冶金方面的应用及存在问题 | 第16-20页 |
| 1.4.1 离子膜电解技术在冶金方面的应用 | 第16-17页 |
| 1.4.2 新型离子膜电解技术的研发 | 第17-18页 |
| 1.4.3 存在的问题 | 第18-20页 |
| 1.5 本课题研究的目的及意义 | 第20页 |
| 1.6 本课题研究的来源及主要内容 | 第20-21页 |
| 1.7 本课题的创新点 | 第21-22页 |
| 2 试验装置与试验方法 | 第22-31页 |
| 2.1 化学药剂与材料及试验仪器 | 第22-24页 |
| 2.1.1 试验材料与化学药剂 | 第22-23页 |
| 2.1.2 试验仪器 | 第23页 |
| 2.1.3 试验装置 | 第23-24页 |
| 2.2 极膜一体化装置 | 第24-27页 |
| 2.2.1 双膜三室钴电积工艺 | 第24-25页 |
| 2.2.2 极膜一体化装置组装方式 | 第25-27页 |
| 2.3 试验原理 | 第27-28页 |
| 2.3.1 常规钴电积工艺 | 第27-28页 |
| 2.3.2 极膜一体化装置钴电积工艺 | 第28页 |
| 2.4 各主要指标测定方法 | 第28-30页 |
| 2.5 电流效率的计算 | 第30页 |
| 2.6 钴电积能耗的计算 | 第30-31页 |
| 3 影响装置运行各钴电积参数的研究 | 第31-55页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 电流密度对钴电积过程的影响研究 | 第31-35页 |
| 3.2.1 电流密度对电流效率的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.2 电流密度对氯气产生的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.3 电流密度对盐酸富集的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.4 小结 | 第35页 |
| 3.3 电解液温度对钴电积过程的影响研究 | 第35-40页 |
| 3.3.1 电解液温度对电流效率的影响 | 第35-37页 |
| 3.3.2 电解液温度对氯气产生的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.3 电解液温度对盐酸富集的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.4 小结 | 第39-40页 |
| 3.4 电解液浓度对钴电积过程的影响研究 | 第40-43页 |
| 3.4.1 电解液浓度对电流效率的影响 | 第40-41页 |
| 3.4.2 电解液浓度对氯气产生的影响 | 第41-42页 |
| 3.4.3 电解液浓度对盐酸富集的影响 | 第42页 |
| 3.4.4 小结 | 第42-43页 |
| 3.5 电解液pH对钴电积过程的影响研究 | 第43-47页 |
| 3.5.1 电解液pH对钴电积电流效率的影响 | 第43-45页 |
| 3.5.2 电解液pH对氯气产生的影响 | 第45-46页 |
| 3.5.3 电解液pH对盐酸富集的影响 | 第46-47页 |
| 3.5.4 小结 | 第47页 |
| 3.6 盐酸浓度对钴电积过程的影响研究 | 第47-51页 |
| 3.6.1 盐酸浓度对电流效率的影响 | 第47-49页 |
| 3.6.2 盐酸浓度对氯气产生的影响 | 第49页 |
| 3.6.3 盐酸浓度对盐酸富集的影响 | 第49-51页 |
| 3.6.4 小结 | 第51页 |
| 3.7 硫酸浓度对钴电积过程的影响研究 | 第51-52页 |
| 3.7.1 硫酸浓度对钴电积电流效率的影响 | 第51页 |
| 3.7.2 硫酸浓度对氯气产生的影响 | 第51-52页 |
| 3.7.3 硫酸浓度对盐酸富集的影响 | 第52页 |
| 3.7.4 小结 | 第52页 |
| 3.8 最佳电积参数下槽电压变化与能耗的研究 | 第52-53页 |
| 3.9 本章小结 | 第53-55页 |
| 4 全流程现场中试试验 | 第55-73页 |
| 4.1 前言 | 第55页 |
| 4.2 中试基本情况 | 第55-56页 |
| 4.2.1 中试现场选择 | 第55页 |
| 4.2.2 现场中试条件 | 第55-56页 |
| 4.3 中试试验的研究重点及方法 | 第56-59页 |
| 4.3.1 极膜一体化装置的组装形式 | 第56-58页 |
| 4.3.2 中试采用的主要仪器设备 | 第58页 |
| 4.3.3 钴电积槽的基本结构 | 第58页 |
| 4.3.4 中试研究重点 | 第58页 |
| 4.3.5 中试研究方法 | 第58-59页 |
| 4.4 中试试验结果与讨论 | 第59-65页 |
| 4.4.1 第一阶段现场中试 | 第61-62页 |
| 4.4.2 第二阶段现场中试 | 第62页 |
| 4.4.3 第三阶段现场中试 | 第62-63页 |
| 4.4.4 第四阶段现场中试 | 第63-64页 |
| 4.4.5 氯气抑制及减少量 | 第64-65页 |
| 4.4.6 膜电积工艺中盐酸的回收 | 第65页 |
| 4.5 电积过程中各体系环境变化 | 第65-69页 |
| 4.6 存在的问题 | 第69-70页 |
| 4.7 解决方式及讨论 | 第70-72页 |
| 4.8 本章小结 | 第72-73页 |
| 5 钴电积中电极过程影响因素探讨 | 第73-77页 |
| 5.1 电极位置对钴沉积的影响 | 第73-74页 |
| 5.2 电极面积大小对钴沉积的影响 | 第74-75页 |
| 5.3 电极间距对钴沉积的影响 | 第75页 |
| 5.4 电极表面平整性对钴沉积的影响 | 第75页 |
| 5.5 多种离子共同放电对钴沉积的影响 | 第75-76页 |
| 5.6 本章小结 | 第76-77页 |
| 6 经济分析 | 第77-79页 |
| 7 结论与建议 | 第79-82页 |
| 7.1 结论 | 第79页 |
| 7.2 建议 | 第79-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-86页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第86页 |
