| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-15页 |
| ·太阳能电池种类及发展 | 第10-12页 |
| ·体材料太阳能电池 | 第10页 |
| ·薄膜太阳能电池 | 第10-12页 |
| ·非晶硅薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| 选题及其意义 | 第14-15页 |
| 2 介质阻挡放电等离子体增强热化学气相沉积技术(DBD-HWCVD) | 第15-18页 |
| ·方法简介 | 第15页 |
| ·工作原理 | 第15-18页 |
| ·热化学气相沉积技术原理 | 第15-16页 |
| ·介质阻挡放电原理 | 第16-18页 |
| 3 DBD-HWCVD沉积系统及分析表征方法 | 第18-23页 |
| ·DBD-HWCVD沉积系统介绍 | 第18-19页 |
| ·分析表征方法 | 第19-23页 |
| 4 DBD-HWCVD法沉积硅薄膜 | 第23-40页 |
| ·实验过程与步骤 | 第23页 |
| ·实验参数 | 第23-24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-39页 |
| ·沉积气压和DBD峰值电压对薄膜沉积速率的影响 | 第24-29页 |
| ·沉积气压和DBD峰值电压对薄膜光学带隙的影响 | 第29-32页 |
| ·沉积气压和DBD峰值电压对薄膜晶化率的影响 | 第32-36页 |
| ·沉积气压和DBD峰值电压对薄膜晶粒尺寸的影响 | 第36-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 5 硅薄膜的电学特性研究 | 第40-46页 |
| ·掺杂浓度对薄膜特性的影响 | 第40-43页 |
| ·钨丝与衬底距离对薄膜性质的影响 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |