摘要 | 第4-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 前言 | 第14-38页 |
1.1 高压物理学简介 | 第14-15页 |
1.2 ABO_4型化合物简介 | 第15-19页 |
1.3 ABO_4型钨(钼)酸盐研究概况 | 第19-26页 |
1.3.1 ABO_4型钨(钼)酸盐常压结构简介 | 第19-22页 |
1.3.2 白钨矿型钨(钼)酸盐的高压研究概况 | 第22-24页 |
1.3.3 黑钨矿以及扭曲的黑钨矿型钨(钼)酸盐的高压研究概况 | 第24-26页 |
1.4 高压实验装置与技术 | 第26-35页 |
1.4.1 金刚石对顶砧实验技术 | 第26-27页 |
1.4.2 高压同步辐射X射线衍射实验技术 | 第27-28页 |
1.4.3 高压交流阻抗谱实验技术 | 第28-35页 |
1.4.3.1 高压交流阻抗谱实验技术简介 | 第28-30页 |
1.4.3.2 绝缘垫片的制备 | 第30-32页 |
1.4.3.3 电极制备及组装 | 第32-35页 |
1.4.3.4 测量装置与方法 | 第35页 |
1.5 本论文的选题目的与意义 | 第35-36页 |
1.6 本论文各部分的主要内容 | 第36-38页 |
第二章 高压下白钨矿型钨(钼)酸盐的结构和电学性质研究 | 第38-68页 |
2.1 高压下CaWO_4的结构和电学性质研究 | 第38-50页 |
2.1.1 研究背景 | 第38-39页 |
2.1.2 实验方法与计算细节 | 第39-40页 |
2.1.3 第一性原理结构预测和高压X射线衍射研究 | 第40-48页 |
2.1.4 高压交流阻抗谱测量 | 第48-50页 |
2.2 高压下CaMoO_4的结构性质研究 | 第50-56页 |
2.2.1 研究背景 | 第50-51页 |
2.2.2 实验方法与计算细节 | 第51-52页 |
2.2.3 高压X射线衍射研究和电子结构研究 | 第52-56页 |
2.3 高压下SrWO_4的结构和电学性质研究 | 第56-66页 |
2.3.1 研究背景 | 第56-57页 |
2.3.2 实验方法与计算细节 | 第57-58页 |
2.3.3 高压X射线衍射研究和第一性原理计算 | 第58-63页 |
2.3.4 高压交流阻抗谱测量 | 第63-66页 |
2.4 本章小结 | 第66-68页 |
第三章 高压下黑钨矿型MgWO_4的结构和电学性质研究 | 第68-78页 |
3.1 研究背景 | 第68-69页 |
3.2 实验方法 | 第69页 |
3.3 高压X射线衍射研究 | 第69-73页 |
3.4 高压交流阻抗谱测量 | 第73-76页 |
3.5 本章小结 | 第76-78页 |
第四章 高压下结晶水对CuWO_4结构和电学性质的影响 | 第78-88页 |
4.1 研究背景 | 第78-79页 |
4.2 实验方法 | 第79页 |
4.3 高压X射线衍射研究 | 第79-82页 |
4.4 高压交流阻抗谱测量 | 第82-86页 |
4.5 本章小结 | 第86-88页 |
第五章 总结与展望 | 第88-92页 |
参考文献 | 第92-110页 |
作者简介及科研成果 | 第110-112页 |
致谢 | 第112页 |