| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 课题研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 蓝宝石改性的研究现状 | 第10-15页 |
| 1.2.1 增透膜系研究现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 亚波长结构研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2.3 蓝宝石表面润湿性能的研究 | 第14-15页 |
| 1.3 抗反射结构的制备方法 | 第15-19页 |
| 1.3.1 增透薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.3.2 亚波长微纳结构的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.4 掩膜的选择 | 第19-21页 |
| 1.4.1 光刻胶掩膜 | 第19-20页 |
| 1.4.2 金属岛状颗粒掩膜 | 第20-21页 |
| 1.4.3 AAO掩膜 | 第21页 |
| 1.5 本文研究的主要内容 | 第21-23页 |
| 第2章 蓝宝石抗反射结构的制备及表征方法 | 第23-29页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 抗反射结构的设计 | 第23-24页 |
| 2.2.1 Essential Macleod软件的介绍 | 第23-24页 |
| 2.2.2 Rsoft软件基本功能的介绍 | 第24页 |
| 2.3 抗反射结构的制备 | 第24-26页 |
| 2.3.1 SiO_2/ HfO_2增透膜系的制备方法 | 第24-25页 |
| 2.3.2 亚波长结构的制备方法 | 第25-26页 |
| 2.4 抗反射结构的测试分析方法 | 第26-28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 增透膜系的制备及性能 | 第29-40页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 SiO_2/ HfO_2膜层厚度的优化 | 第29-31页 |
| 3.2.1 HfO_2薄膜厚度变化对蓝宝石透过率的影响 | 第30页 |
| 3.2.2 材料结构偏差对增透膜增透性能的影响 | 第30-31页 |
| 3.3 增透膜系的制备 | 第31-33页 |
| 3.3.1 溅射工艺参数 | 第31-32页 |
| 3.3.2 沉积速率的测定 | 第32-33页 |
| 3.4 退火处理对薄膜结晶性以及成分的影响 | 第33-35页 |
| 3.4.1 退火处理对薄膜结晶性的影响 | 第33页 |
| 3.4.2 退火处理对薄膜成分的影响 | 第33-35页 |
| 3.5 中间层厚度变化对增透膜性能的影响 | 第35-39页 |
| 3.5.1 中间层厚度变化对透光率的影响 | 第35-36页 |
| 3.5.2 中间层厚度变化对薄膜间结合力的影响 | 第36-38页 |
| 3.5.3 中间层厚度变化对薄膜结晶性的影响 | 第38-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 蓝宝石表面亚波长结构的制备性能研究 | 第40-58页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 亚波长结构的模拟 | 第40-43页 |
| 4.2.1 亚波长最佳结构参数的模拟 | 第40-43页 |
| 4.2.2 亚波长结构参数改变对透过率的影响 | 第43页 |
| 4.3 AAO掩膜的制备 | 第43-45页 |
| 4.4 刻蚀工艺研究 | 第45-52页 |
| 4.4.1 刻蚀气体的选择 | 第45-46页 |
| 4.4.2 刻蚀功率对刻蚀效果的影响 | 第46-48页 |
| 4.4.3 气体组分对刻蚀效果的影响 | 第48-50页 |
| 4.4.4 刻蚀气压对刻蚀效果的影响 | 第50-52页 |
| 4.5 固相外延 | 第52-55页 |
| 4.5.1 亚波长图形的结构和形貌 | 第52-55页 |
| 4.6 亚波长结构的性能 | 第55-57页 |
| 4.6.1 亚波长结构对蓝宝石透过率的影响 | 第55页 |
| 4.6.2 亚波长结构对蓝宝石润湿性的影响 | 第55-57页 |
| 4.7 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
