| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 前言 | 第11页 |
| 1.2 二氧化钛光催化的概述 | 第11-14页 |
| 1.2.2 二氧化钛的光催化原理 | 第12-13页 |
| 1.2.3 二氧化钛的光致亲水性原理 | 第13-14页 |
| 1.2.3.1 二氧化钛的亲水性原理 | 第13-14页 |
| 1.2.3.2 二氧化钛的亲水性研究进展 | 第14页 |
| 1.3 二氧化钛薄膜的制备 | 第14-16页 |
| 1.3.1 溶胶凝胶法 | 第14-15页 |
| 1.3.2 机械压膜法 | 第15页 |
| 1.3.3 胶黏法 | 第15页 |
| 1.3.4 磁控溅射法 | 第15-16页 |
| 1.3.5 脉冲激光沉积法 | 第16页 |
| 1.3.6 化学气相沉积法 | 第16页 |
| 1.4 二氧化钛的掺杂改性方法 | 第16-18页 |
| 1.4.1 离子掺杂 | 第16页 |
| 1.4.2 半导体复合 | 第16-17页 |
| 1.4.3 贵金属掺杂 | 第17页 |
| 1.4.4 共掺杂 | 第17页 |
| 1.4.5 染料敏化 | 第17-18页 |
| 1.5 可见光响应的二氧化钛薄膜的研究进展和机理 | 第18-19页 |
| 1.5.1 可见光响应的二氧化钛薄膜研究进展 | 第18页 |
| 1.5.2 N掺杂二氧化钛薄膜的机理 | 第18-19页 |
| 1.6 负载二氧化钛薄膜的研究进展 | 第19-22页 |
| 1.6.1 二氧化钛薄膜在陶瓷方面的应用 | 第20-22页 |
| 1.7 本文的研究目的与内容 | 第22-24页 |
| 1.7.1 本文研究的目的 | 第22页 |
| 1.7.2 本文研究的内容 | 第22-23页 |
| 1.7.3 本文研究的意义 | 第23-24页 |
| 第二章 原料与表征 | 第24-30页 |
| 2.1 前言 | 第24页 |
| 2.2 实验药品 | 第24-25页 |
| 2.3 实验仪器与设备 | 第25-26页 |
| 2.4 测试和表征 | 第26-28页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析分析 | 第26页 |
| 2.4.2 扫描电子显微分析（能谱仪） | 第26-27页 |
| 2.4.3 傅里叶红外光谱分析 | 第27页 |
| 2.4.4 X射线光电子谱分析 | 第27页 |
| 2.4.5 DSC-TG | 第27页 |
| 2.4.6 硬度测试 | 第27页 |
| 2.4.7 附着力测试 | 第27-28页 |
| 2.5 二氧化钛光催化性能表征方法 | 第28-30页 |
| 2.5.1 降解率测试 | 第28-29页 |
| 2.5.2 亲水性测试 | 第29-30页 |
| 第三章 二氧化薄膜的制备与表征 | 第30-53页 |
| 3.1 催化剂制备方法 | 第30-31页 |
| 3.1.1 溶胶凝胶法制备二氧化钛薄膜及颗粒 | 第30-31页 |
| 3.2 二氧化钛薄膜和颗粒的表征 | 第31-38页 |
| 3.2.1 时间的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.2 温度的影响 | 第33-36页 |
| 3.2.3 pH值和层数对二氧化钛颗粒和薄膜的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.3.1 pH值的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.3.2 层数的影响 | 第37-38页 |
| 3.3 添加剂对二氧化钛稳定性的影响 | 第38-42页 |
| 3.3.1 改性二氧化钛的制备 | 第38-39页 |
| 3.3.1.1 有机物改性二氧化钛的制备 | 第39页 |
| 3.3.1.2 无机物改性二氧化钛的制备 | 第39页 |
| 3.3.2 有机物对二氧化钛晶体稳定性影响 | 第39-40页 |
| 3.3.3 无机物对二氧化钛晶体稳定性影响 | 第40-42页 |
| 3.4 SiO_2改性对二氧化钛薄膜的制备与表征 | 第42-47页 |
| 3.4.1 SiO_2改性对二氧化钛薄膜的制备 | 第42-43页 |
| 3.4.2 SiO_2改性对二氧化钛薄膜的表征 | 第43-47页 |
| 3.4.2.1 SiO_2改性TiO_2颗粒的物相表征 | 第43-44页 |
| 3.4.2.2 外墙砖表面显微形貌表征 | 第44-46页 |
| 3.4.2.3 外墙砖的光催化降解率 | 第46-47页 |
| 3.5 硝酸镍改性对二氧化钛薄膜的影响 | 第47-51页 |
| 3.5.1 Ni掺杂二氧化钛薄膜的制备 | 第47-48页 |
| 3.5.2 硝酸镍改性对二氧化钛薄膜的表征 | 第48-51页 |
| 3.5.2.1 Ni掺杂TiO_2颗粒的物相表征 | 第48-49页 |
| 3.5.2.2 外墙砖表面显微形貌表征 | 第49-50页 |
| 3.5.2.3 外墙砖的光催化降解率 | 第50-51页 |
| 3.6 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 N掺杂二氧化钛薄膜的制备与表征 | 第53-74页 |
| 4.1 前言 | 第53页 |
| 4.2 N掺杂二氧化钛薄膜的制备 | 第53页 |
| 4.3 N掺杂二氧化钛薄膜的表征 | 第53-62页 |
| 4.3.1 N掺杂二氧化钛颗粒的物相分析 | 第54-55页 |
| 4.3.2 涂膜外墙砖表面显微形貌分析 | 第55-58页 |
| 4.3.2.1 PVP掺入量对N掺杂二氧化钛薄膜的影响 | 第55-56页 |
| 4.3.2.2 温度对N掺杂二氧化钛薄膜的影响 | 第56-57页 |
| 4.3.2.3 层数对N掺杂二氧化钛薄膜的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.3 N掺杂二氧化钛薄膜的DSC-TG分析 | 第58-59页 |
| 4.3.4 N掺杂二氧化钛薄膜的FT-IR分析 | 第59-60页 |
| 4.3.5 N掺杂二氧化钛的XPS分析 | 第60-62页 |
| 4.4 N掺杂二氧化钛薄膜的光催化降解率 | 第62-66页 |
| 4.4.1 PVP掺入量对薄膜光催化能力的影响 | 第62-64页 |
| 4.4.2 陶瓷基体对薄膜光催化能力的影响 | 第64-66页 |
| 4.5 接触角、附着力、硬度和耐久性的测试与表征 | 第66-71页 |
| 4.5.1 接触角测试 | 第66-68页 |
| 4.5.2 附着力和硬度测试 | 第68-69页 |
| 4.5.2.1 附着力测试 | 第68页 |
| 4.5.2.2 硬度测试 | 第68-69页 |
| 4.5.3 耐久性测试 | 第69-71页 |
| 4.6 陶瓷薄膜的色度测试 | 第71-72页 |
| 4.7 本章小结 | 第72-74页 |
| 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 攻读博士/硕士学位期间取得的研究成果 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 答辩委员会对论文的评定意见 | 第85页 |
