| 摘要 | 第7-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 镁合金概述 | 第10-16页 |
| 1.2.1 镁合金的特性 | 第11-12页 |
| 1.2.2 镁合金的发展与应用 | 第12-13页 |
| 1.2.3 镁合金的防腐技术 | 第13-16页 |
| 1.2.3.1 阳极氧化技术 | 第14页 |
| 1.2.3.2 电镀与化学镀 | 第14-15页 |
| 1.2.3.3 转化膜技术 | 第15页 |
| 1.2.3.4 氢化物涂层技术 | 第15-16页 |
| 1.2.3.5 气相沉积技术 | 第16页 |
| 1.2.3.6 激光表面合金化/熔覆技术 | 第16页 |
| 1.3 微弧氧化概述 | 第16-19页 |
| 1.3.1 微弧氧化技术的特点 | 第17-18页 |
| 1.3.2 微弧氧化技术的发展与现状 | 第18-19页 |
| 1.4 选题背景与研究内容 | 第19-21页 |
| 1.4.1 选题背景 | 第19-20页 |
| 1.4.2 课题研究的目的和内容 | 第20-21页 |
| 第2章 研究方法 | 第21-31页 |
| 2.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.2 仪器设备 | 第21-22页 |
| 2.3 实验设计 | 第22-25页 |
| 2.4 微弧氧化膜层的制备 | 第25页 |
| 2.5 微弧氧化膜层的表征与检测 | 第25-29页 |
| 2.5.1 膜厚的表征 | 第25-26页 |
| 2.5.2 膜层耐蚀性的表征 | 第26-27页 |
| 2.5.2.1 点滴实验 | 第26-27页 |
| 2.5.2.2 电化学测试 | 第27页 |
| 2.5.3 膜层形貌与成分的表征 | 第27-28页 |
| 2.5.3.1 表面与截面形貌 | 第27-28页 |
| 2.5.3.2 膜层的表面成分 | 第28页 |
| 2.5.4 能耗的测算 | 第28-29页 |
| 2.6 数据分析方法 | 第29-31页 |
| 2.6.1 异常值检验 | 第29页 |
| 2.6.2 正交实验的直观分析 | 第29页 |
| 2.6.3 正交实验的方差分析 | 第29-31页 |
| 第3章 基体预处理及初始加载速率对微弧氧化膜厚的影响 | 第31-40页 |
| 3.1 无损膜厚和有损膜厚的对比分析 | 第31-33页 |
| 3.2 微弧氧化膜层的厚度 | 第33-37页 |
| 3.2.1 膜厚的直观分析 | 第34-36页 |
| 3.2.2 膜厚的方差分析 | 第36-37页 |
| 3.3 讨论 | 第37-38页 |
| 3.4 小结 | 第38-40页 |
| 第4章 基体预处理及初始加载速率对微弧氧化膜层耐蚀性的影响 | 第40-56页 |
| 4.1 基于点滴实验的耐蚀性 | 第40-43页 |
| 4.1.1 点滴液完全变色时间的直观分析 | 第40-42页 |
| 4.1.2 点滴液完全变色时间的方差分析 | 第42-43页 |
| 4.2 基于电化学测试的耐蚀性 | 第43-46页 |
| 4.2.1 腐蚀电流密度的直观分析 | 第44-46页 |
| 4.2.2 腐蚀电流密度的方差分析 | 第46页 |
| 4.3 讨论 | 第46-54页 |
| 4.3.1 腐蚀过程的讨论 | 第46-47页 |
| 4.3.2 微弧氧化膜层微观形貌的讨论 | 第47-51页 |
| 4.3.3 微弧氧化膜层的成分分析 | 第51-52页 |
| 4.3.4 微弧氧化膜层耐蚀性的综合讨论 | 第52-54页 |
| 4.4 小结 | 第54-56页 |
| 本文结论 | 第56-57页 |
| 本文创新点 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第65页 |