首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--一般性问题论文--基础理论论文--微波与超高频技术论文

金属边界条件下的微波断层成像研究

摘要第1-12页
Abstract第12-14页
第一章 绪论第14-23页
   ·研究背景及意义第14-16页
   ·国内外研究现状第16-19页
   ·本文的主要工作和章节安排第19-23页
     ·论文的主要研究内容第19-20页
     ·论文的创新成果第20-21页
     ·论文的章节编排第21-23页
第二章 微波断层成像中的电磁逆问题分析第23-45页
   ·逆源问题与逆散射问题第23-27页
   ·电磁逆问题的解第27-37页
     ·电磁逆问题的描述第27-29页
     ·电磁逆问题解的存在性讨论第29-31页
     ·电磁逆问题解的唯一性讨论第31-32页
     ·电磁逆问题解的稳定性讨论第32-37页
   ·正则化方法第37-44页
   ·小结第44-45页
第三章 微波断层成像中的电磁逆问题求解方法第45-69页
   ·线性求解方法第45-52页
     ·波恩近似第45-46页
     ·滤波反向传播法第46-52页
   ·波恩迭代法第52-54页
   ·非线性求解方法第54-61页
     ·变形波恩迭代法第54-57页
     ·对比源法第57-61页
   ·大对比目标的微波断层成像第61-65页
   ·信号校准方法第65-68页
   ·小结第68-69页
第四章 金属边界条件下的微波断层成像研究第69-101页
   ·基于自由空间和金属边界条件下的微波断层成像系统第69-72页
   ·微波断层成像中的积分算子第72-74页
   ·发射/接收天线的数量对反演结果的影响第74-81页
   ·发射/接收天线的位置对反演结果的影响第81-84页
   ·发射/接收天线不同位置的情况第84-90页
   ·工作频率选取第90-96页
   ·对称系统对反演结果的影响第96-99页
   ·小结第99-101页
第五章 基于非均一背景的微波断层成像研究第101-124页
   ·微波断层成像系统中的非均一背景第101-102页
   ·非均一背景对成像分辨率的影响第102-105页
   ·非均一背景对成像结果误差的影响第105-110页
   ·一种微波断层成像的积分算子评价方法第110-116页
   ·模拟退火法的应用第116-119页
   ·金属边界条件下微波断层成像分层最优非均一背景第119-122页
   ·小结第122-124页
第六章 总结与未来工作第124-126页
致谢第126-127页
参考文献第127-137页
作者在学期间取得的学术成果第137页

论文共137页,点击 下载论文
上一篇:数字演化硬件与容错技术研究
下一篇:多通道SAR成像理论与方法研究