| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-31页 |
| ·稀土发光材料 | 第11-19页 |
| ·发光材料的定义与分类 | 第11-12页 |
| ·稀土发光材料的原理及特性 | 第12-14页 |
| ·稀土发光材料的发展及应用 | 第14-17页 |
| ·稀土发光材料的制备方法 | 第17-19页 |
| ·微纳米加工技术在薄膜图案化中的应用 | 第19-25页 |
| ·传统微加工技术-光刻技术 | 第19-20页 |
| ·经济易用的丝网印刷技术 | 第20页 |
| ·新兴的喷墨打印 | 第20-21页 |
| ·新颖快捷的微/纳米加工新方法-软石印技术 | 第21-25页 |
| ·微/纳米加工过程中的去润湿现象 | 第25-30页 |
| ·润湿 | 第25-27页 |
| ·聚合物薄膜的去润湿现象 | 第27-28页 |
| ·聚合物薄膜去润湿行为的影响因素 | 第28-29页 |
| ·利用去润湿图案化薄膜 | 第29-30页 |
| ·课题设计 | 第30-31页 |
| 第2章 实验部分 | 第31-35页 |
| ·实验材料 | 第31页 |
| ·样品制备与处理 | 第31-32页 |
| ·溶胶前驱体的制备 | 第31页 |
| ·PDMS模板制备 | 第31-32页 |
| ·基底的洗涤 | 第32页 |
| ·薄膜图案化 | 第32页 |
| ·烧结 | 第32页 |
| ·仪器和表征 | 第32-35页 |
| 第3章 两种软石印法制备多种特征阵列的YVO_4:Eu~(3+)的发光薄膜 | 第35-59页 |
| ·前言 | 第35-36页 |
| ·图案化薄膜制备 | 第36-43页 |
| ·YVO_4:Eu~(3+)溶胶前驱体溶液的制备 | 第36-37页 |
| ·PDMS模板制作 | 第37-38页 |
| ·基底的清洗 | 第38-41页 |
| ·微转移模板法制备稀土发光薄膜 | 第41页 |
| ·微接触打印法制备稀土发光薄膜 | 第41-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-59页 |
| ·点阵的物质结构 | 第43页 |
| ·点阵及组成点阵粒子的形貌 | 第43-49页 |
| ·点阵的光学性质 | 第49-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |