| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-27页 |
| ·ZNO材料的基本特性 | 第11-13页 |
| ·ZNO材料的研究进展 | 第13-25页 |
| ·ZnO的紫外受激发射 | 第13-16页 |
| ·ZnO的P型掺杂的研究进展 | 第16-22页 |
| ·P掺杂ZnO的研究进展 | 第22-25页 |
| ·当前ZNO材料研究中存在的问题 | 第25页 |
| ·本论文研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 ZNO薄膜的制备技术和表征手段 | 第27-36页 |
| ·ZNO薄膜的制备技术 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射技术 | 第27-28页 |
| ·退火设备 | 第28-29页 |
| ·ZNO薄膜的表征手段 | 第29-36页 |
| ·X射线衍射谱(XRD) | 第29-30页 |
| ·X—射线能量散射分析能谱(EDX) | 第30页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第30-31页 |
| ·拉曼光谱 | 第31-32页 |
| ·光致发光谱 | 第32-33页 |
| ·透射和吸收光谱 | 第33-34页 |
| ·霍尔效应测量 | 第34-36页 |
| 第三章 磷掺杂P型ZNO薄膜的制备、性能及机制 | 第36-47页 |
| ·磷掺杂P型ZNO薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·靶材的制备 | 第36页 |
| ·薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·磷掺杂P型ZNO薄膜的结构分析 | 第37-41页 |
| ·电学性质分析 | 第37-38页 |
| ·结构表征 | 第38-40页 |
| ·SEM和EDS分析 | 第40-41页 |
| ·磷掺杂ZNO薄膜的光学性质的分析 | 第41-45页 |
| ·室温光致发光谱 | 第41-42页 |
| ·变温光致发光谱 | 第42-44页 |
| ·吸收光谱 | 第44-45页 |
| ·P掺杂ZNO的P型的形成机制 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 退火温度对ZNO:P薄膜物理性能的影响 | 第47-58页 |
| ·样品的制备 | 第47页 |
| ·不同退火温度对P掺杂ZNO薄膜的结构和性能的影响 | 第47-57页 |
| ·结构表征和分析 | 第47-50页 |
| ·电学性质表征 | 第50-53页 |
| ·拉曼表征 | 第53-55页 |
| ·吸收光谱分析 | 第55-56页 |
| ·光致发光谱分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 蓝宝石衬底对ZNO:P薄膜的影响 | 第58-64页 |
| ·样品的制备 | 第58-59页 |
| ·样品的结构表征 | 第59-60页 |
| ·样品的电学性能分析 | 第60-61页 |
| ·样品的拉曼光谱分析 | 第61-62页 |
| ·光致发光谱分析 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-75页 |
| 致谢 | 第75页 |