摘要 | 第1-3页 |
Abstract | 第3-8页 |
第一章 绪论 | 第8-22页 |
·新型三元层状陶瓷:M~(n+1)AX_n相 | 第8-9页 |
·Ti_2AlN三元层状化合物 | 第9-15页 |
·Ti-Al-N薄膜的晶体结构 | 第9-10页 |
·Ti-Al-N薄膜生长机理 | 第10-11页 |
·Ti_2AlN的衍生、发展及理论研究 | 第11-12页 |
·Ti_2AlN合成制备的研究现状 | 第12-13页 |
·Ti_2AlN的性能 | 第13页 |
·Ti_2AlN薄膜的应用前景 | 第13-15页 |
·多弧离子镀技术 | 第15-20页 |
·表面处理技术 | 第15页 |
·多弧离子镀技术起源及原理 | 第15-16页 |
·主要工艺参数研究 | 第16-18页 |
·多弧离子镀技术主要特点 | 第18页 |
·多弧离子镀技术发展过程中存在的问题 | 第18-19页 |
·多弧离子镀技术主要应用 | 第19-20页 |
·研究意义、内容和方案 | 第20-22页 |
·研究意义 | 第20页 |
·研究内容 | 第20页 |
·研究方案 | 第20-22页 |
第二章 沉积态Ti-Al-N薄膜的制备与表征 | 第22-39页 |
·试验材料 | 第22-23页 |
·基体材料 | 第22页 |
·靶源材料 | 第22页 |
·施镀气氛 | 第22-23页 |
·多弧离子镀设备 | 第23页 |
·施镀过程与施镀工艺 | 第23-25页 |
·施镀过程 | 第23-25页 |
·施镀工艺 | 第25页 |
·多弧离子镀Ti-Al-N镀层的组织 | 第25-27页 |
·Ti-Al-N镀层的成分 | 第25-26页 |
·Ti-Al-N沉积态薄膜物相分析 | 第26-27页 |
·多弧离子镀Ti-Al-N镀层的性能 | 第27-32页 |
·性能测试方法 | 第27-29页 |
·性能测试结果与分析 | 第29-31页 |
·优化工艺的确定 | 第31-32页 |
·优化工艺条件下制备Ti-Al-N薄膜 | 第32-34页 |
·沉积工艺 | 第32-33页 |
·优化工艺薄膜的成分 | 第33页 |
·优化工艺薄膜的物相 | 第33-34页 |
·优化工艺薄膜的性能检测 | 第34页 |
·氮气通量对Ti-Al-N薄膜表面形貌及力学性能的影响 | 第34-35页 |
·氮气通量对表面形貌的影响 | 第34-35页 |
·氮气通量对性能的影响 | 第35页 |
·负偏压对Ti-Al-N薄膜表面形貌及性能的影响 | 第35-38页 |
·负偏压对Ti-Al-N薄膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
·负偏压对镀膜性能的影响 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第三章 沉积态薄膜的退火及退火态镀层的组织性能 | 第39-47页 |
·试验方法 | 第39-40页 |
·退火热处理试样 | 第39页 |
·真空气氛管式电炉 | 第39-40页 |
·退火工艺流程 | 第40页 |
·组织性能表征方法 | 第40页 |
·热处理工艺对沉积态镀层相组成的影响 | 第40-42页 |
·退火态镀层相组成 | 第40-41页 |
·退火温度对薄膜相组成的影响 | 第41-42页 |
·多弧离子镀工艺对热处理镀层相组成的影响 | 第42-43页 |
·退火态镀层的性能 | 第43-45页 |
·退火前后试样性能比较 | 第43-44页 |
·退火温度对退火态镀层性能的影响 | 第44-45页 |
·退火镀层分析 | 第45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
第四章 Ti_2ALN薄膜的耐腐蚀性能与抗氧化性能 | 第47-56页 |
·试验方法 | 第47-48页 |
·试样选择 | 第47页 |
·试验设备 | 第47页 |
·耐蚀性检测方法 | 第47页 |
·抗氧化性检测方法 | 第47-48页 |
·Ti_2AlN薄膜的耐腐蚀性能 | 第48-49页 |
·极化曲线的测定 | 第48-49页 |
·交流阻抗的测定 | 第49页 |
·Ti_2AlN薄膜的抗氧化性能 | 第49-55页 |
·恒温氧化性能比较 | 第49-50页 |
·薄膜变温氧化增重分析 | 第50-51页 |
·Ti_2AlN薄膜的SEM组织形貌 | 第51-52页 |
·Ti_2AlN薄膜抗高温氧化试验物相分析 | 第52页 |
·完全氧化后薄膜形貌及成分分析 | 第52-54页 |
·Ti_2AlN薄膜抗氧化机理探讨 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第五章 结论 | 第56-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
作者简介 | 第63页 |
攻读硕士学位期间研究成果 | 第63-64页 |