| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-23页 |
| ·课题背景 | 第12页 |
| ·聚偏氟乙烯概述 | 第12-13页 |
| ·聚偏氟乙烯/陶瓷高介电复合材料 | 第13-20页 |
| ·陶瓷粉体的种类与填充量 | 第14-16页 |
| ·陶瓷粉体的形态 | 第16页 |
| ·陶瓷粉体的粒径 | 第16-17页 |
| ·陶瓷粉体的分散性 | 第17-18页 |
| ·三相复合工艺 | 第18-19页 |
| ·复合薄膜的制备工艺 | 第19-20页 |
| ·本文的选题意义及主要内容 | 第20-23页 |
| ·本文选题意义 | 第20-21页 |
| ·本文研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验部分 | 第23-28页 |
| ·实验原料与药品 | 第23页 |
| ·实验仪器与设备 | 第23-24页 |
| ·样品制备 | 第24页 |
| ·性能测试与表征分析方法 | 第24-28页 |
| ·介电常数和介电损耗 | 第24-25页 |
| ·击穿场强 | 第25-26页 |
| ·其他分析 | 第26-28页 |
| 第3章 PVDF/BT 复合薄膜的制备及表征 | 第28-40页 |
| ·PVDF/BT 复合薄膜的制备 | 第28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-38页 |
| ·PVDF/BT 复合薄膜的介电性能分析 | 第29-31页 |
| ·PVDF/BT 复合薄膜的电击穿性能分析 | 第31-32页 |
| ·PVDF/BT 复合薄膜的 XRD 分析 | 第32-33页 |
| ·PVDF/BT 复合薄膜的 FTIR 分析 | 第33-34页 |
| ·PVDF/BT 复合薄膜的 DSC 分析 | 第34-36页 |
| ·PVDF/BT 复合薄膜的 TG 分析 | 第36-37页 |
| ·PVDF/BT 复合薄膜的 SEM 分析 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 表面改性 PVDF/BT 复合薄膜的制备 | 第40-57页 |
| ·偶联剂改性 BaTiO3粉体 | 第40-48页 |
| ·改性方法 | 第40-41页 |
| ·改性效果评价 | 第41页 |
| ·实验过程 | 第41-42页 |
| ·偶联剂改性 BT 粉体的效果评价与表征 | 第42-48页 |
| ·改性 PVDF/BT 复合薄膜的制备和表征 | 第48-55页 |
| ·改性 PVDF/BT 复合薄膜的介电性能分析 | 第48-49页 |
| ·改性 PVDF/BT 复合薄膜的电击穿性能分析 | 第49-51页 |
| ·改性 PVDF/BT 复合薄膜的 XRD 分析 | 第51-52页 |
| ·改性 PVDF/BT 复合薄膜的 DSC 分析 | 第52-53页 |
| ·改性 PVDF/BT 复合薄膜的 TG 分析 | 第53-54页 |
| ·改性 PVDF/BT 复合薄膜的 SEM 分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第5章 淬火对 PVDF/BT 复合薄膜各项性能的影响 | 第57-67页 |
| ·实验方法 | 第57页 |
| ·结果与分析 | 第57-66页 |
| ·淬火对 PVDF/BT 复合薄膜的介电性能的影响 | 第57-60页 |
| ·淬火对 PVDF/BT 复合薄膜的电击穿性能的影响 | 第60-62页 |
| ·淬火工艺制备的 PVDF/BT 复合薄膜的 XRD 分析 | 第62-63页 |
| ·淬火工艺制备的 PVDF/BT 复合薄膜的 DSC 分析 | 第63-65页 |
| ·淬火工艺制备的 PVDF/BT 复合薄膜的 TG 分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第6章 PVDF/BT/CCTO 三相复合薄膜的制备及表征 | 第67-76页 |
| ·实验过程 | 第68页 |
| ·结果与分析 | 第68-75页 |
| ·三相复合薄膜的介电性能分析 | 第69-71页 |
| ·三相复合薄膜的电击穿性能分析 | 第71-74页 |
| ·三相复合薄膜的 XRD 分析 | 第74-75页 |
| ·三相复合薄膜的 SEM 分析 | 第75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 作者简介 | 第84页 |
