中文摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
1 绪论 | 第11-26页 |
·纳米发光材料 | 第11-12页 |
·纳米发光材料的特性 | 第11页 |
·纳米发光材料研究的必要性 | 第11-12页 |
·纳米发光材料的表面研究与修饰 | 第12页 |
·发光形成的过程 | 第12-14页 |
·直接跃迁 | 第13-14页 |
·允许的带间直接跃迁 | 第13页 |
·禁戒的带间直接跃迁 | 第13页 |
·局域能级参与的跃迁 | 第13页 |
·声子参与的跃迁 | 第13-14页 |
·间接带间的跃迁 | 第14页 |
·稀土的重要性及其研究意义 | 第14-15页 |
·镧系离子的发光机理 | 第15-19页 |
·镧系元素的电子结构 | 第15页 |
·镧系元素的价态与半径 | 第15-16页 |
·三价镧系离子的能级 | 第16-17页 |
·镧系离子的f-f跃迁、f-d跃迁以及电荷迁移带 | 第17-19页 |
·镧系离子的f-f跃迁 | 第17页 |
·镧系离子的f-d跃迁 | 第17页 |
·电荷迁移带 | 第17-19页 |
·氟化物的研究现状及其重要性 | 第19-21页 |
·氟化物的研究现状及应用 | 第19-21页 |
·氟化物的重要性 | 第21页 |
·稀土纳米发光材料 | 第21-24页 |
·稀土纳米氟化物发光材料的研究进展 | 第21-22页 |
·制备稀土纳米发光材料的方法 | 第22-24页 |
·高温固相法 | 第22页 |
·沉淀法 | 第22页 |
·水热法 | 第22-23页 |
·自蔓延高温合成(燃烧法) | 第23页 |
·微波合成法 | 第23页 |
·溶胶-凝胶法 | 第23-24页 |
·本论文研究的主要内容及意义 | 第24-26页 |
2 复合纳米发光材料LaF_3-SiO_2:Tb~(3+)的制备和发光性质研究 | 第26-41页 |
·实验部分 | 第26-28页 |
·主要试剂 | 第26页 |
·实验设备 | 第26页 |
·复合纳米发光材料La_xSi_((100-x)):Tb~(3+)的制备 | 第26-28页 |
·样品的结构分析 | 第28-31页 |
·IR分析 | 第28页 |
·TG-DTA谱图分析 | 第28-29页 |
·XRD谱图分析 | 第29-30页 |
·粒子的SEM分析 | 第30-31页 |
·样品的结构分析 | 第31页 |
·样品的光致发光性能 | 第31-34页 |
·三维光谱分析 | 第31-32页 |
·激发光谱分析 | 第32-33页 |
·发射光谱分析 | 第33-34页 |
·对发光影响因素的讨论 | 第34-39页 |
·基质中LaF_3与SiO_2摩尔配比改变对发光强度的影响 | 第34页 |
·稀土Tb~(3+)掺杂摩尔浓度对发光强度的影响 | 第34-37页 |
·退火温度对材料发光强度的影响 | 第37-39页 |
·样品配制过程中pH值对发光的影响 | 第39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
3 复合微米发光材料LaF_3-SiO_2:Eu~(3+)的制备和发光性质研究 | 第41-55页 |
·实验部分 | 第41-43页 |
·实验试剂 | 第41页 |
·实验设备 | 第41页 |
·复合微米发光材料La_xSi_((100-x)):Eu~(3+)的制备 | 第41-43页 |
·样品的结构分析 | 第43-46页 |
·IR分析 | 第43-44页 |
·TG-DTA谱图分析 | 第44页 |
·XRD谱图分析 | 第44-45页 |
·粒子的SEM分析 | 第45页 |
·样品的结构分析 | 第45-46页 |
·样品的光致发光性能研究 | 第46-49页 |
·三维谱图分析 | 第46页 |
·激发谱图分析 | 第46-47页 |
·发射谱图分析 | 第47-49页 |
·影响发光因素的讨论 | 第49-54页 |
·基质中LaF_3与SiO_2摩尔配比改变时对发光性质的影响 | 第49页 |
·稀土Eu~(3+)掺杂摩尔浓度改变时对发光的影响 | 第49-52页 |
·退火温度对发光性质的影响 | 第52-54页 |
·样品配制过程中pH值对发光的影响 | 第54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
4 结论 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-62页 |
硕士研究生期间发表的论文 | 第62-63页 |
致谢 | 第63页 |