| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-27页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·分子筛的分类及结构特点 | 第7-10页 |
| ·介孔分子筛的合成 | 第10-16页 |
| ·介孔分子筛的合成方法 | 第10-11页 |
| ·介孔分子筛的合成途径 | 第11-13页 |
| ·介孔分子筛的合成机理 | 第13-16页 |
| ·液晶模板机理(Liquid-crystal templating mecllanism) | 第14-15页 |
| ·协同组装机理(Cooper。ative formation mechanism) | 第15-16页 |
| ·其他合成机理 | 第16页 |
| ·模板剂的种类和作用 | 第16-19页 |
| ·介孔材料的结构表征 | 第19-21页 |
| ·非硅介孔材料的研究进展 | 第21-23页 |
| ·钨基介孔材料的研究状况 | 第23-25页 |
| ·研究展望 | 第25-26页 |
| ·本课题的研究思路、内容及意义 | 第26-27页 |
| 第二章 介孔氧化钨材料的水热合成与表征 | 第27-49页 |
| ·实验部分 | 第27-29页 |
| ·试剂与仪器 | 第27-28页 |
| ·试剂 | 第28页 |
| ·仪器 | 第28页 |
| ·样品制备 | 第28页 |
| ·样品表征 | 第28-29页 |
| ·结果讨论 | 第29-39页 |
| ·PH值的影响 | 第29-32页 |
| ·PH值调节剂的影响 | 第32-34页 |
| ·CTAB/Na_2WO_4的影响 | 第34-36页 |
| ·水热时间的影响 | 第36-38页 |
| ·水热温度的影响 | 第38-39页 |
| ·介孔结构氧化钨的脱模处理 | 第39-47页 |
| ·煅烧脱模 | 第39-44页 |
| ·紫外光照射的影响 | 第44-47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第三章 介孔氧化钨材料的室温合成与表征 | 第49-55页 |
| ·实验部分 | 第49-50页 |
| ·试剂与仪器 | 第49页 |
| ·样品制备 | 第49-50页 |
| ·样品的表征 | 第50页 |
| ·结果讨论 | 第50-53页 |
| ·PH值的影响 | 第50-52页 |
| ·CTAB/Na2w2a的影响 | 第52页 |
| ·室温静置时间的影响 | 第52-53页 |
| ·合成方法的比较分析 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第四章 介孔硫化钨材料的合成与表征 | 第55-65页 |
| ·实验部分 | 第55-56页 |
| ·试剂与仪器 | 第55-56页 |
| ·试剂 | 第55页 |
| ·仪器 | 第55-56页 |
| ·样品的合成 | 第56页 |
| ·样品的表征 | 第56页 |
| ·结果讨论 | 第56-61页 |
| ·不同酸介质条件下的合成结果 | 第56-58页 |
| ·水热时间的影响 | 第58页 |
| ·水热温度的影响 | 第58-60页 |
| ·表面活性剂量的影响 | 第60-61页 |
| ·介孔结构硫化钨的煅烧脱模处理 | 第61-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 结 论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-75页 |
| 致 谢 | 第75-76页 |
| 个人简历 | 第76页 |