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新型氮化铟基太赫兹耿氏二极管研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-20页
   ·太赫兹波简介第10-15页
     ·太赫兹波的特点第11页
     ·太赫兹波的主要应用领域第11-13页
     ·太赫兹波辐射源第13-15页
   ·耿氏二极管概述第15-17页
   ·本论文的主要成果及章节安排第17-20页
第二章 InN 材料的电子输运特性第20-44页
   ·Ⅲ-Ⅴ族氮化物第20-22页
   ·InN 材料特性第22-34页
     ·InN 的禁带宽度争议第24-27页
     ·电子速场的蒙特卡罗方法仿真第27-34页
   ·迁移率模型第34-43页
     ·低场 FMCT 迁移率模型第34-38页
     ·高场迁移率模型第38-43页
   ·本章小节第43-44页
第三章 耿氏二极管的器件级仿真第44-58页
   ·耿氏二极管的原理第44-48页
     ·耿氏效应第44-45页
     ·耿氏器件的原理第45-48页
   ·耿氏二极管的设计第48-49页
   ·InN 和 GaN 耿氏二极管的器件级仿真第49-56页
   ·本章小节第56-58页
第四章 耿氏二极管的电路级仿真第58-70页
   ·MIXEDMODE 介绍第58-59页
   ·耿氏二极管的调谐第59-61页
     ·耿氏二极管电路调谐振荡的原理第59-60页
     ·耿氏二极管的调谐第60-61页
   ·InN 和 GaN 耿氏二极管的电路级仿真第61-68页
   ·本章小节第68-70页
第五章 总结与展望第70-72页
致谢第72-74页
参考文献第74-80页
作者在读期间的研究成果第80-81页
 参与科研项目第80页
 论文成果第80-81页

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