摘要 | 第1-3页 |
Abstract | 第3-6页 |
引言 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-15页 |
·ZnO的结构和性能 | 第8-9页 |
·ZnO的晶体结构 | 第8页 |
·ZnO的电学性能 | 第8-9页 |
·ZnO的光学性能 | 第9页 |
·ZnO的应用 | 第9-11页 |
·太阳能电池 | 第9-10页 |
·ZnO发光器件 | 第10页 |
·气敏器件 | 第10-11页 |
·压敏器件 | 第11页 |
·紫外探测器 | 第11页 |
·ZnO薄膜的制备方法 | 第11-14页 |
·脉冲激光沉积 | 第12页 |
·分子束外延 | 第12页 |
·溶胶-凝胶 | 第12-13页 |
·金属有机化学气相沉积 | 第13页 |
·磁控溅射 | 第13-14页 |
·本论文研究的主要内容 | 第14-15页 |
第二章 ZnO薄膜的制备与表征 | 第15-26页 |
·磁控溅射法制备ZnO薄膜的特点和原理 | 第15-16页 |
·磁控溅射的原理 | 第15-16页 |
·射频磁控溅射的原理 | 第16页 |
·实验设备 | 第16-18页 |
·样品制备 | 第18-20页 |
·基片清洗 | 第18页 |
·薄膜制备 | 第18页 |
·薄膜生长 | 第18-19页 |
·透明薄膜晶体管的制备 | 第19-20页 |
·ZnO薄膜的发光机理 | 第20-21页 |
·绿光的发光机理 | 第21页 |
·其他发光机理 | 第21页 |
·ZnO薄膜的表征 | 第21-26页 |
·X射线衍射(XRD) | 第21-22页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第22-23页 |
·光致发光谱(PL) | 第23-24页 |
·紫外-可见分光光度计(UV-VIS) | 第24-26页 |
第三章 溅射参数对ZnO薄膜的影响 | 第26-47页 |
·衬底温度对薄膜结构和光学性能的影响 | 第26-30页 |
·衬底温度对薄膜晶体特性的影响 | 第26-27页 |
·衬底温度对薄膜表面形貌 | 第27-28页 |
·衬底温度对薄膜透过率的影响 | 第28-30页 |
·本节小结 | 第30页 |
·溅射功率对薄膜结构和光学性能的影响 | 第30-37页 |
·溅射功率对溅射速率的影响 | 第30-31页 |
·溅射功率对薄膜晶体特性的影响 | 第31-32页 |
·溅射功率对薄膜表面形貌的影响 | 第32-33页 |
·溅射功率对薄膜光学性能的影响 | 第33-37页 |
·本节小结 | 第37页 |
·氧氩比对磁控溅射制备ZnO薄膜特性的影响 | 第37-41页 |
·氧氩比对薄膜厚度的影响 | 第37-38页 |
·氧氩比对薄膜透过率的影响 | 第38-39页 |
·氧氩比对薄膜荧光光谱的影响 | 第39-40页 |
·本节小结 | 第40-41页 |
·溅射气压对薄膜结构和光学性能的影响 | 第41-47页 |
·溅射气压对薄膜厚度的影响 | 第41-42页 |
·溅射气压对薄膜结晶性能的影响 | 第42-43页 |
·溅射气压对薄膜表面形貌的影响 | 第43-44页 |
·溅射气压对薄膜透过率的影响 | 第44-46页 |
·本节小结 | 第46-47页 |
第四章 衬底温度对掺镓ZnO和ZnO基薄膜晶体管的影响 | 第47-54页 |
·衬底温度对磁控溅射制备掺镓ZnO薄膜特性的影响 | 第47-49页 |
·衬底温度对薄膜透过率的影响 | 第47-48页 |
·衬底温度对薄膜电学性能的影响 | 第48-49页 |
·本节小结 | 第49页 |
·衬底温度对ZnO基薄膜晶体管性能的影响 | 第49-54页 |
·光刻 | 第49-51页 |
·ZnO基TFT的结构和工作原理 | 第51-53页 |
·本实验室ZnO薄膜晶体管的制备 | 第53-54页 |
结论 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-59页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |